[發(fā)明專利]PCB沉銅工藝及其沉銅架有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110650085.8 | 申請日: | 2021-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN113416948B | 公開(公告)日: | 2023-08-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 伍海霞;梅佳月;周文光 | 申請(專利權)人: | 金祿電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/38 | 分類號: | C23C18/38;H05K3/42;H05K3/18 |
| 代理公司: | 惠州知儂專利代理事務所(普通合伙) 44694 | 代理人: | 羅佳龍 |
| 地址: | 511518 廣東省清遠市高新技術*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | pcb 工藝 及其 沉銅架 | ||
本申請?zhí)峁┮环NPCB沉銅工藝及其沉銅架。上述的PCB沉銅架包括母籃和子籃,母籃包括第一支架、底座、第二支架及固定桿,第一支架與底座連接,第二支架與底座遠離第一支架的一端連接,固定桿分別與第一支架及第二支架連接;子籃包括籃體和懸掛件,懸掛件連接于籃體的一側(cè),懸掛件用于與固定桿可拆卸掛接,籃體開設有定位凹槽,定位凹槽用于放置PCB。上述的PCB沉銅架操作更加簡便且能夠減少或避免PCB上下板擦花問題。
技術領域
本發(fā)明涉及印刷電路板技術領域,特別是涉及一種PCB沉銅工藝及其沉銅架。
背景技術
化學鍍銅(Eletcroless?Plating?Copper)通常也叫沉銅或孔化(PTH)是一種自身催化性氧化還原反應,被廣泛應用于有通孔的印制線路板(Printed?Circuit?Board,簡稱PCB)的生產(chǎn)加工中,印刷線路板的制作包括焊盤、過孔、阻焊層、絲印層、沉銅等部分的工序。沉銅技術被廣泛應用于有通孔的印制線路板的生產(chǎn)加工中,沉銅主要是一種利用化學反應將銅鍍在板上的技術,在已鉆孔的不導電的孔壁基材上,采用化學的方法沉積上一層薄薄的銅,以作為后面電鍍銅的基底。
PCB沉銅流程中除上板和下板外,均需要在藥水缸中進行,各藥水缸所添加的藥水根據(jù)其功能而定。在此過程中,沉銅架作為PCB的運載工具將PCB按照沉銅流程依次浸入到藥水缸內(nèi),反應完成后再提起送入到下一藥水缸。沉銅架主要功能是將PCB固定在沉銅線機器上,以便沉銅工序的進行。
但是,現(xiàn)有的沉銅架體積較大,上下板時需要將沉銅架整個拆卸并安裝,費時費力。此外,現(xiàn)有的沉銅工序過程中易造成PCB擦花等品質(zhì)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術中的不足之處,提供一種操作更加簡便且能夠減少或避免PCB上下板擦花問題的PCB沉銅工藝及其沉銅架。
本發(fā)明的目的是通過以下技術方案來實現(xiàn)的:
一種PCB沉銅架,所述沉銅架包括母籃和子籃,所述母籃包括第一支架、底座、第二支架及固定桿,所述第一支架與所述底座連接,所述第二支架與所述底座遠離所述第一支架的一端連接,所述固定桿分別與所述第一支架及所述第二支架連接;所述子籃包括籃體和懸掛件,所述懸掛件連接于所述籃體的一側(cè),所述懸掛件用于與所述固定桿可拆卸掛接,所述籃體開設有定位凹槽,所述定位凹槽用于放置所述PCB。
在其中一個實施例中,所述子籃還包括提手環(huán),所述提手環(huán)與所述籃體連接。
在其中一個實施例中,所述籃體開口處的寬度大于所述籃體底部的寬度。
本申請還提供一種PCB沉銅工藝,采用如上任一實施例所述的PCB沉銅架對所述PCB進行沉銅操作,所述PCB沉銅工藝包括以下步驟:
將所述PCB放置在所述子籃中;
將所述母籃固定在沉銅線上;
將裝有所述PCB的所述子籃掛入所述母籃中;
對所述PCB進行預處理操作,得到預處理PCB;
對所述預處理PCB進行沉銅操作,得到沉銅PCB;
將所述子籃從所述母籃中卸下,并對所述子籃中的所述沉銅PCB進行更換操作。
在其中一個實施例中,在將PCB放置在子籃中的步驟之后,以及在將母籃固定在沉銅線上的步驟之前,所述PCB沉銅工藝還包括以下步驟:
對所述PCB進行沖洗操作。
在其中一個實施例中,在將PCB放置在子籃中的步驟之后,以及在將母籃固定在沉銅線上的步驟之前,所述PCB沉銅工藝還包括以下步驟:
對所述PCB進行除油操作。
在其中一個實施例中,所述預處理操作具體包括以下步驟:
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產(chǎn)物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





