[發明專利]掩模干燥裝置

在審

• 申請號: 202110634856.4
• 申請日: 2021-06-08
• 公開（公告）號: CN114068277A
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 姜爀;金栽豊;安昶昱
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 全振永;劉燦強

公開了一種掩模干燥裝置。所述掩模干燥裝置包括：腔室；等離子體產生部件，連接于腔室的一側壁；第一干燥部件，布置在垂直于一側壁的腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋轉部件，連接于掩模固定部件，其中，掩模固定部件能夠借由旋轉部件而在等離子體產生部件與第一干燥部件之間旋轉。

技術領域

本發明涉及一種掩模干燥裝置以及掩模清洗系統，更加詳細地，涉及一種利用等離子體的掩模干燥裝置以及掩模清洗系統。

背景技術

在制造顯示裝置的過程中，可以使用掩模。可以通過所述掩模將沉積物質以期望的圖案沉積在基板等。在沉積過程中，在掩模沾有異物的情形下，可能由于所述異物而無法將所述沉積物質以期望的圖案沉積到所述基板。因此，有必要清洗所述掩模。在進行清洗之后，需要確保殘留在所述掩模的清洗液、水分等完全干燥才能利用所述掩模順利地進行所述沉積過程。

現有的干燥過程是在將揮發性化學物質涂覆在所述掩模后利用空氣干燥器來進行的。在此情形下，存在所述揮發性化學物質爆炸的危險，并且存在管理所述揮發性化學物質的成本高等缺點。

因此，正在大量進行著關于通過新的方式進行所述干燥過程的研究。

發明內容

本發明的技術問題是基于這些問題而構思的，本發明的目的在于提供一種包括等離子體裝置的掩模干燥裝置。

本發明的目的在于提供一種包括等離子體裝置的掩模清洗系統。

然而，本發明要解決的技術問題并不限于上述提及的技術問題，并且可以在不脫離本發明的構思和領域的范圍內以各種方式擴展。

根據用于實現上述本發明的目的的實施例的掩模干燥裝置可以包括：腔室；等離子體產生部件，連接于所述腔室的一側壁；第一干燥部件，布置在垂直于所述一側壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋轉部件，連接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件能夠借由所述旋轉部件而在所述等離子體產生部件與所述第一干燥部件之間旋轉。

在實施例中，所述第一干燥部件可以包括鹵素燈。

在實施例中，所述第一干燥部件可以包括加熱器。

在實施例中，所述加熱器可以包括加熱線圈。

在實施例中，所述第一干燥部件可以產生微波。

在實施例中，在所述等離子體產生部件和所述掩模固定部件平行地排列時，所述等離子體產生部件與所述掩模之間的距離可以為5mm至15mm。

在實施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列時，所述第一干燥部件與所述掩模之間的距離可以為5mm至15mm。

在實施例中，所述等離子體產生部件可以包括紫外線燈。

在實施例中，所述等離子體產生部件可以包括多個等離子體頭。

在實施例中，所述腔室可以包括惰性氣體。

在實施例中，所述等離子體產生部件可以產生氧自由基和氮自由基中的至少一種。

在實施例中，所述氧自由基和所述氮自由基中的至少一種與所述惰性氣體的反應可以在常溫和常壓下進行。

在實施例中，所述等離子體產生部件和所述第一干燥部件可以彼此垂直地布置。

在實施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列時，所述掩模和所述第一干燥部件可以重疊。

在實施例中，還可以包括布置在與所述下部壁對向的所述腔室的上部壁的第二干燥部件。

在實施例中，所述第二干燥部件可以與所述第一干燥部件平行地布置。