[發明專利]圖像校準方法和裝置、設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202110607397.0 | 申請日: | 2021-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN113327204A | 公開(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發明(設計)人: | 劉成成;韓春營;陳晨;陳杰運;俞宗強;蔣俊海 | 申請(專利權)人: | 中科晶源微電子技術(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06K9/62;G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京市鼎立東審知識產權代理有限公司 11751 | 代理人: | 陳佳妹;朱慧娟 |
| 地址: | 102600 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 校準 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
1.一種圖像校準方法,其特征在于,包括:
由預先設置的兩種以上的校準模式中選取當前模式;其中,不同的所述校準模式對應標準圖像在待檢測圖像中的不同截取方式;
基于所述當前模式,由所述待檢測圖像中截取所述標準圖像,并使用所述標準圖像、第一參考圖像和第二參考圖像分別進行匹配校準,得到所述待檢測圖像與所述第一參考圖像的第一校準結果,以及所述待檢測圖像與所述第二參考圖像的第二校準結果;
對所述第一校準結果和所述第二校準結果進行準確性判斷;
在判斷出所述第一校準結果和所述第二校準結果均不準確時,更換當前的校準模式,并基于更換后的校準模式對所述待檢測圖像、所述第一參考圖像和所述第二參考圖像進行匹配校準。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述校準模式包括第一校準模式、第二校準模式和第三校準模式;
所述第一校準模式中所定義的所述標準圖像在所述待檢測圖像中的截取方式為:由所述待檢測圖像中的中心截取;
所述第二校準模式中所定義的所述標準圖像在所述待檢測圖像中的截取方式為:由所述待檢測圖像中的左下角截取;
所述第三校準模式中所定義的所述標準圖像在所述待檢測圖像中的截取方式為:由所述待檢測圖像中的右上角截取。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,對所述第一校準結果和所述第二校準結果進行準確性判斷時,通過分別計算所述第一校準結果所對應的校準分數以及所述第二校準結果所對應的校準分數,并根據計算得到的所述校準分數進行判斷。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,分別計算所述第一校準結果所對應的校準分數以及所述第二校準結果所對應的校準分數,包括:
基于所述第一校準結果和所述第二校準結果,對所述第一參考圖像和所述第二參考圖像進行平移矯正;
在所述待檢測圖像與所述第一參考圖像的重疊區域,以及所述待檢測圖像與所述第二參考圖像的重疊區域分別計算所述第一校準結果對應的校準分數以及所述第二校準結果對應的校準分數。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,更換當前的校準模式之前,還包括:
判斷所述當前模式是否為設定模式;
在判斷出所述當前模式為所述設定模式時,由所述第一校準結果和所述第二校準結果中選取一個結果作為最終校準結果。
6.根據權利要求1至5任一項所述的方法,其特征在于,在確定出所述第一校準結果和所述第二校準結果中存在一個結果準確時,包括:
對所述第一參考圖像和所述第二參考圖像進行匹配校準,得到所述第一參考圖像與所述第二參考圖像的第三校準結果;
判斷所述第三校準結果是否準確;
在判斷出所述第三校準結果準確時,根據所述第一校準結果和所述第二校準結果中準確的結果以及所述第三校準結果,計算得到另一校準結果。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,根據所述第一校準結果和所述第二校準結果中準確的結果以及所述第三校準結果,計算得到另一校準結果時,使用向量守恒規則進行推導計算。
8.根據權利要求1至5任一項所述的方法,其特征在于,對讀取到的待檢測圖像、第一參考圖像和第二參考圖像進行匹配校準,得到所述待檢測圖像與所述第一參考圖像的第一校準結果,以及所述待檢測圖像與所述第二參考圖像的第二校準結果時,均采用NCC算法進行。
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