[發(fā)明專利]一種平面電極及其制備方法和應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110583459.9
• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113410064B
• 公開（公告）日: 2023-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 袁偉;吳耀鵬;王淳;袁宇航
• 申請（專利權(quán)）人: 華南理工大學(xué)
• 主分類號: H01G11/26
• 分類號: H01G11/26;H01G11/86
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 周調(diào)云

1.一種平面電極的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：

采用激光熱熔法在微孔濾膜上形成電極圖案；

將導(dǎo)電材料沉積在所述電極圖案上，形成圖案化電極材料層；所述導(dǎo)電材料含有還原氧化石墨烯，所述還原氧化石墨烯由氧化石墨烯溶液經(jīng)紫外激光輻照還原得到；

將所述圖案化電極材料層轉(zhuǎn)印到基底上，得到平面電極；

采用激光熱熔法在微孔濾膜上進行圖案化，微孔濾膜中被激光照射的纖維受熱熔化并原位冷卻堆積，形成不親水的、無微孔的熔化堆積層，熔化堆積層形成電極圖案的邊緣；導(dǎo)電材料沉積在熔化堆積層包圍形成的親水微孔區(qū)域，從而形成圖案化電極材料層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述制備方法，其特征在于：所述激光熱熔法的參數(shù)為：激光波長范圍為248nm～10.6μm；激光功率為0.1～10W；激光距微孔濾膜的距離為5～100mm；激光掃描速度為10～80mm/s；激光掃描時間為0.1～10min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述制備方法，其特征在于：所述微孔濾膜中微孔的孔徑為0.1～10μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述制備方法，其特征在于：所述導(dǎo)電材料還含有摻雜材料，所述摻雜材料包括石墨烯、六方氮化硼、過渡金屬硫化物、MXenes、黑磷、碳納米管、金屬氧化物和導(dǎo)電聚合物中的任意一種或多種的混合物。

5.權(quán)利要求1～4任一項所述制備方法制得的平面電極。

6.一種平面型超級電容器，其特征在于：平面型超級電容器包含權(quán)利要求5所述平面電極。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述平面型超級電容器，其特征在于：所述平面型超級電容器包括上述平面電極、導(dǎo)電集流體和凝膠電解質(zhì)，所述導(dǎo)電集流體至少設(shè)置有兩個，分別與所述平面電極兩端的電連接部分連接，所述凝膠電解質(zhì)設(shè)置在所述平面電極的表面。

8.權(quán)利要求7所述平面型超級電容器的制作方法，其特征在于：包括如下步驟：將所述導(dǎo)電集流體與平面電極兩端的電連接部分連接，將所述凝膠電解質(zhì)涂覆在平面電極的表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述平面型超級電容器在制作可穿戴設(shè)備中的應(yīng)用。