[發(fā)明專利]發(fā)光器件及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110582937.4 | 申請日: | 2021-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN115411198A | 公開(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王華民 | 申請(專利權(quán))人: | TCL科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 遠(yuǎn)明 |
| 地址: | 516006 廣東省惠州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 器件 及其 制造 方法 | ||
本申請?zhí)峁┮环N發(fā)光器件及其制造方法。發(fā)光器件包括第一電極層、電極保護(hù)層、發(fā)光層和第二電極層。電極保護(hù)層設(shè)置于第一電極層上。電極保護(hù)層中分散有氧氣吸收材料。發(fā)光層設(shè)置于電極保護(hù)層遠(yuǎn)離第一電極層的一側(cè)。第二電極層設(shè)置于發(fā)光層遠(yuǎn)離電極保護(hù)層的一側(cè)。本申請通過在第一電極層側(cè)形成電極保護(hù)層,電極保護(hù)層中分散有氧氣吸收粒子,氧氣吸收粒子能夠吸收發(fā)光器件中的氧氣,從而避免了氧氣對電極層的侵蝕,有效地保障了器件的穩(wěn)定性,并延長器件壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種發(fā)光器件及其制造方法。
背景技術(shù)
有機電致發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,OLED)發(fā)光器件和量子點有機發(fā)光二極管(Quantum Dot Light Emitting Diode,QLED)發(fā)光器件等發(fā)光器件由于具有廣視角、高對比度、高響應(yīng)速度、高亮度等優(yōu)點,而逐漸成為顯示領(lǐng)域的主流。
但是,目前的OLED和QLED顯示器封裝技術(shù)和封裝材料不能完全避免氧氣的入侵。當(dāng)氧氣殘留或從外部進(jìn)入到發(fā)光器件內(nèi)部時,會使電子傳輸層等功能層與電極之間的界面發(fā)生氧化,改變傳輸性質(zhì),降低界面之間的結(jié)合力。當(dāng)發(fā)光器件通電或進(jìn)行加熱等處理時,會加劇氧化的進(jìn)行,造成器件的迅速老化、失效,器件性能急劇降低。因此,需要提出一種方案來降低氧氣對發(fā)光器件的影響,提高器件光電特性,并延長器件壽命。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本申請目的在于提供一種能夠降低氧氣對發(fā)光器件的影響的發(fā)光器件及其制造方法。
本申請?zhí)峁┮环N發(fā)光器件,其包括:
第一電極層;
電極保護(hù)層,設(shè)置于所述第一電極層上,所述電極保護(hù)層中分散有氧氣吸收材料;
發(fā)光層,設(shè)置于所述電極保護(hù)層遠(yuǎn)離所述第一電極層的一側(cè);以及
第二電極層,設(shè)置于所述發(fā)光層遠(yuǎn)離所述電極保護(hù)層的一側(cè)。
在一種實施方式中,所述氧氣吸收材料包括二氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、二氧化鋯以及硫化鎘中的一種或多種。
在一種實施方式中,所述氧氣吸收材料由二氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、二氧化鋯以及硫化鎘中的一種或多種組成。
在一種實施方式中,所述電極保護(hù)層中還分散有氫氣吸收材料。
在一種實施方式中,所述氫氣吸收材料包括C60+Ca和TiSi2中的至少一種。
在一種實施方式中,所述氫氣吸收材料由C60+Ca和TiSi2中的至少一種組成。
在一種實施方式中,所述電極保護(hù)層包括有機薄膜,所述氧氣吸收材料分散于所述有機薄膜中,所述有機薄膜的材料包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、丙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯以及聚苯乙烯中的一種。
在一種實施方式中,所述電極保護(hù)層包括有機薄膜和氫氣吸收材料,所述氧氣吸收材料和所述氫氣吸收材料分散于所述有機薄膜中,所述電極保護(hù)層中,所述有機薄膜的材料的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為50wt%至75wt%;所述氧氣吸收材料的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為12.5wt%至25wt%;所述氫氣吸收材料的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為12.5wt%至25wt%。
在一種實施方式中,所述電極保護(hù)層中還分散有空穴消除劑。
在一種實施方式中,所述空穴消除劑包括三乙醇胺、聚二乙醇、聚乙烯醇、聚環(huán)氧乙烷中的一種或多種。
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