[發(fā)明專利]硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110579522.1 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113299778B | 公開(公告)日: | 2022-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王東博;趙晨晨;王金忠;矯淑杰;曾值;劉雅欣;劉東昊;劉洋洋;張雨琦 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/102;H01L31/18;C23C14/18;C23C14/35;C23C16/30;C23C28/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱龍科專利代理有限公司 23206 | 代理人: | 李智慧 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硒化鉍 碲化鉍超 晶格 紅外 波段 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器,其特征在于所述探測器包括藍(lán)寶石襯底、Bi2Se3層、Bi2Te3層和金電極,藍(lán)寶石襯底上生長Bi2Se3層,Bi2Se3層上生長Bi2Te3層,Bi2Se3與Bi2Te3之間形成Bi2Se3/Bi2Te3異質(zhì)結(jié),金電極設(shè)置在Bi2Se3層和Bi2Te3層上,所述Bi2Te3層和Bi2Se3層的厚度均為9~10個單原子層,利用9~10單原子層Bi2Te3材料和9~10單原子層Bi2Se3材料構(gòu)成超晶格,利用超晶格形成微帶,當(dāng)入射光子能量大于等于超晶格間微帶帶隙,實現(xiàn)中波紅外響應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器,其特征在于所述藍(lán)寶石襯底的厚度2μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器,其特征在于所述金電極分為頂電極和底電極,頂電極設(shè)置在Bi2Te3層上,底電極設(shè)置在Bi2Se3層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器,其特征在于頂電極和底電極連線垂直于Bi2Se3層和Bi2Te3層交界面,電極之間間距2mm,頂電極距交界面1mm,底電極距交界面1mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器,其特征在于所述金電極的厚度為50μm。
6.一種權(quán)利要求1-5任一項所述硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器的制備方法,其特征在于所述方法包括如下步驟:
步驟一、在藍(lán)寶石襯底上利用CVD技術(shù)生長Bi2Te3層;
步驟二、在生長的Bi2Se3層上利用CVD技術(shù)生長Bi2Te3層;
步驟三、利用磁控濺射技術(shù)在Bi2Se3層和Bi2Te3層表面沉積Au電極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硒化鉍/碲化鉍超晶格紅外雙波段探測器的制備方法,其特征在于所述步驟一中,CVD工藝如下:(1)使用Bi2O3粉末作為Bi源,Se粒作Se源,100~300sccm氬氣、10~30sccm氫氣作為生長載氣,生長設(shè)備使用雙溫區(qū)管式爐,將Bi2O3放置在高溫區(qū),升溫至600~800℃;(2)將Se放置在低溫區(qū),升溫至200~400℃;(3)采用化學(xué)氣相沉積法在GaN襯底上生長Bi2Se3薄膜,控制生長時間為1~3小時。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





