[發明專利]一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置

在審

• 申請號: 202110575327.1
• 申請日: 2021-05-26
• 公開（公告）號: CN113304712A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: 董照平
• 申請（專利權）人: 董照平
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01D33/35;B01D33/15;B22C1/00
• 代理公司: 杭州研基專利代理事務所(普通合伙) 33389
• 代理人: 祁文鵬

1.一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，包括反應箱(100)，所述反應箱(100)內設有隔板(107)，所述反應箱(100)的左右兩側內壁位于所述隔板(107)上方分別設有電磁滑道所述反應箱(100)下端設有四個底座(101)，所述反應箱(100)上端設有半圓罩(102)，所述半圓罩(102)的弧形端面上設有端蓋(103)，其特征在于：所述反應箱(100)內設有漩渦機構，所述反應箱(100)左端設有與所述漩渦機構配合的充氣機構，所述反應箱(100)內位于所述漩渦機構的左右兩側分別設有脫離機構，所述反應箱(100)下端位于四個所述底座(101)間設有回流機構。

2.根據權利要求1所述的一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，其特征在于：所述漩渦機構包括設置在所述反應箱(100)下端的電機箱(104)，所述電機箱(104)內設有第一電機(105)，所述第一電機(105)輸出端固連有延伸至所述反應箱(100)內的第一電機軸(106)，所述第一電機軸(106)同時貫穿所述反應箱(100)下端壁和所述隔板(107)并延伸至所述隔板(107)上方，所述第一電機軸(106)上套設有第一齒輪(108)，所述第一齒輪(108)位于所述反應箱(100)下側內壁和所述隔板(107)下端面間，所述第一電機軸(106)位于所述隔板(107)上方的頂端設有第一圓盤(109)，所述第一圓盤(109)上沿第一圓盤(109)圓周方向均布有至少兩個的擋水塊(110)，若干所述擋水塊(110)上方設有第二圓盤(111)。

3.根據權利要求2所述的一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，其特征在于：所述第二圓盤(111)上端沿第二圓盤(111)的圓周方向均布有至少兩個的彈性板(112)。

4.根據權利要求1所述的一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，其特征在于：所述充氣機構包括設置在所述反應箱(100)左端面的儲氣箱(113)，所述儲氣箱(113)上方連接有第一氣管(114)，所述第一氣管(114)貫穿所述半圓罩(102)延伸至所述反應箱(100)內，且所述第一氣管(114)位于所述漩渦機構正上方，所述第一氣管(114)上設有至少兩組的排氣組件，若干組所述排氣組件沿第一氣管(114)的徑向方向均布在第一氣管(114)的外周側。

5.根據權利要求4所述的一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，其特征在于：所述排氣組件包括開設在所述第一氣管(114)外周側至少兩個的排氣孔(116)，每個所述排氣孔(116)內滑動連接有擋板(117)，每個所述擋板(117)遠離所述第一氣管(114)中心線的一端設有導向板(118)，每個所述導向板(118)上通過拉繩連接有浮球(119)。

6.根據權利要求1所述的一種基于真空置換法的水玻璃砂制備裝置，其特征在于：所述脫離機構包括轉動設置在所述反應箱(100)下側內壁的齒輪軸(120)，所述齒輪軸(120)貫穿所述隔板(107)延伸至所述隔板(107)上方，所述齒輪軸(120)上套設有第二齒輪(121)，所述第二齒輪(121)位于所述反應箱(100)下側內壁和所述隔板(107)下端面間，所述齒輪軸(120)位于所述隔板(107)上方的頂端可拆卸設有至少兩個的彈性濾網(125)，若干所述彈性濾網(125)沿反應箱(100)的高度方向均布在齒輪軸(120)上方，且與所述齒輪軸(120)接觸的最底層彈性濾網(125)為硬性材質，其余若干所述彈性濾網(125)為彈性材質，相鄰的兩個所述彈性濾網(125)間均布有四個連接桿(126)，沿反應箱(100)高度方向自下而上位于第二的四個所述連接桿(126)外周側設有環形架(123)，所述環形架(123)遠離所述反應箱(100)中心線的一端固連有滑動設置在所述電磁滑道內的磁性滑塊(122)。