[發明專利]一種基于電場控制Ag2 在審
| 申請號: | 202110564032.4 | 申請日: | 2021-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN113387323A | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發明(設計)人: | 張俐楠;陳建龍;劉紅英;陸凱;吳立群;王洪成 | 申請(專利權)人: | 杭州電子科技大學 |
| 主分類號: | B81C1/00 | 分類號: | B81C1/00;B81B1/00 |
| 代理公司: | 浙江千克知識產權代理有限公司 33246 | 代理人: | 周希良 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 電場 控制 ag base sub | ||
本發明公開了一種基于電場控制Ag2Ga納米針陣列成形的制備方法,包括步驟:S1、通過光刻、蝕刻以在第一硅基板表面陣列形成針尖結構;S2、在針尖結構的尖端處鍍一層鎘薄膜和銀薄膜,以形成探針陣列硅基底;S3、在第二硅基板表面涂覆一層鎵膜,并進行加熱以使鎵膜成為液態,以形成鎵膜襯底;S4、將鎵膜襯底滑動連接于水平滑軌上;S5、將探針陣列硅基底滑動連接于垂直滑軌上;S6、對鎵膜襯底與探針陣列硅基底接通直流電源,以形成電場;S7、通過控制電場強度,以及鎵膜襯底、探針陣列硅基底于水平滑軌、垂直滑軌上的滑動方向、滑動速度,以在探針陣列硅基底與鎵膜襯底之間形成相應形狀的Ag2Ga納米針。本發明實現了Ag2Ga納米針陣列成形且形狀可控。
技術領域
本發明屬于納米針制備技術領域,具體涉及一種基于電場控制Ag2Ga納米針陣列成形的制備方法。
背景技術
納米針作為一維的納米材料,具有獨特的機械性、熱穩定性、電子傳輸和光子傳輸性、光學性質、光導性和場發射效應等特點,因此具有巨大的應用前景。目前為止,市面上生產單個納米針多靠技術人員,使用一個在光學或電子顯微鏡下觀察的納米操縱器,將一個鍍銀的探針與鎵液滴接觸。該方法費時費力,容易造成誤差,納米針形態難以控制,應用價值較低,無法批量生產。
因此,如果存在使用納米線對整個探針晶片進行成批成形的方法,制造速度可以大大提高,制造成本可以大幅降低,開發品質更優、直徑更細長徑比更高、制備更簡單的納米針具有更大的產業價值和商業價值。
發明內容
針對現有技術中存在的上述問題,本發明提出一種基于電場控制Ag2Ga納米針陣列成形的制備方法,可陣列形成Ag2Ga納米針,且可控制納米針的形狀,可批量生產納米針,降低生產成本,提高效率。
本發明采用以下技術方案:一種基于電場控制Ag2Ga納米針陣列成形的制備方法,包括步驟:
S1、對第一硅基板表面進行光刻以及各向異性蝕刻,以在第一硅基板表面陣列形成針尖結構;
S2、在針尖結構的尖端處鍍一層鎘薄膜,并在鎘薄膜外鍍一層銀薄膜,以形成探針陣列硅基底;
S3、在第二硅基板表面涂覆一層鎵膜,并對鎵膜進行加熱以使鎵膜成為液態,從而形成鎵膜襯底;
S4、將鎵膜襯底滑動連接于水平滑軌上,以實現鎵膜襯底在水平方向上的滑動;
S5、將探針陣列硅基底相對設置于鎵膜襯底上方,并將探針陣列硅基底滑動連接于設置于水平滑軌側邊的垂直滑軌,以實現探針陣列硅基底于鎵膜襯底上方的垂直運動;
S6、對鎵膜襯底與探針陣列硅基底接通直流電源,以形成電場;
S7、通過控制電場強度,控制鎵膜襯底于水平滑軌上的滑動方向、滑動速度,控制探針陣列硅基底于垂直滑軌上的滑動方向、滑動速度,以在探針陣列硅基底與鎵膜襯底之間形成相應形狀的Ag2Ga納米針。
作為優選方案,步驟S1中具體為:在第一硅基板表面以正方形區域陣列形成針尖結構。
作為優選方案,步驟S2中,在對針尖結構的尖端處進行鍍銀之前還包括以下步驟:
S2.1、對尖端處用除油劑進行清洗;
S2.2、用水沖洗尖端處的除油劑;
S2.3、將尖端處放置于硫酸溶液中酸洗活化處理;
S2.4、用水沖洗尖端處,再用去離子水對尖端處進行沖洗,直至去除尖端處表面殘留酸液。
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