[發(fā)明專利]正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110532928.4
• 申請日: 2021-05-17
• 公開（公告）號: CN113687573A
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 松本直純
• 申請（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/008;G03F7/039
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 楊宏軍;唐崢

本發(fā)明涉及正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。本發(fā)明的課題在于提供兼具優(yōu)異的焦點深度特性和優(yōu)異的分辨率的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述正型感光性樹脂組合物形成的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。本發(fā)明的解決手段為，在包含堿溶性樹脂(A)和含醌二疊氮基的化合物(B)的正型感光性樹脂組合物中，使用以特定比率組合包含特定結(jié)構(gòu)的2種含醌二疊氮基的化合物的含醌二疊氮基的化合物(B)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。

背景技術(shù)

作為在基板上形成布線、端子的方法，已知將抗蝕劑圖案用作掩模圖案而進行金屬層的蝕刻、或者將抗蝕劑圖案用作電鍍用的鑄模圖案而進行電鍍的方法。

作為在基板上形成布線、端子時形成抗蝕劑圖案的方法，通常為下述方法：使用由負型感光性組合物形成的干式膜，在基板上形成感光性組合物層，并對該感光性組合物層進行曝光及顯影。但是，使用負型感光性組合物時，存在下述問題：分辨率不充分；或者有時難以將抗蝕劑圖案從基板剝離；等等。

因此，作為解決上述課題的方法，可舉出使用分辨率良好、較容易從基板剝離的正型感光性組合物來形成抗蝕劑圖案的方法。

作為能夠用于形成由金屬構(gòu)成的布線、端子等的正型感光性組合物，例如，包含甲酚Novolac樹脂等堿溶性Novolac樹脂、感光劑、和苯并三唑系化合物的感光性組合物是已知的(參見專利文獻1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-176012號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

但是，專利文獻1所記載那樣的正型感光性組合物中，難以同時實現(xiàn)優(yōu)異的焦點深度(DOF)特性、和優(yōu)異的分辨率(即，能夠在幾乎不產(chǎn)生顯影殘渣的情況下形成微細的圖案)。因此，期望向?qū)＠墨I1所記載那樣的正型感光性組合物賦予優(yōu)異的焦點深度特性及優(yōu)異的分辨率。

另外，對于感光性組合物，通常要求高敏感度化。然而，通常，使感光性組合物高敏感度化時，容易引起焦點深度特性及分辨率的降低。因此，對于高敏感度的感光性組合物而言，特別期望優(yōu)異的焦點深度特性與優(yōu)異的分辨率的兼得。

本發(fā)明是鑒于上述課題而作出的，其目的在于提供兼具優(yōu)異的焦點深度特性和優(yōu)異的分辨率的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述正型感光性樹脂組合物形成的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。

用于解決課題的手段

本申請的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，通過在包含堿溶性樹脂(A)和含醌二疊氮基的化合物(B)的正型感光性樹脂組合物中，使用以特定比率組合包含特定結(jié)構(gòu)的2種含醌二疊氮基的化合物的含醌二疊氮基的化合物(B)，能夠解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。具體而言，本發(fā)明提供以下的方案。

本發(fā)明的第1方式為正型感光性樹脂組合物，其包含堿溶性樹脂 (A)及含醌二疊氮基的化合物(B)，

含醌二疊氮基的化合物(B)包含下述式(B1)表示的化合物和下述式(B2)表示的化合物，

(式(B1)中，D各自獨立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5- 磺酰基，4個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基。)