[發明專利]壓力篩和用于壓力篩的稀釋方法

有效

• 申請號: 202110482017.5
• 申請日: 2021-04-30
• 公開（公告）號: CN113215848B
• 公開（公告）日: 2023-05-26
• 發明（設計）人: 亞歷山大·葛帥德
• 申請（專利權）人: 安德里茨（中國）有限公司
• 主分類號: D21D5/06
• 分類號: D21D5/06;D21D5/16
• 代理公司: 北京卓孚律師事務所 11821
• 代理人: 任宇

本發明涉及一種用于壓力篩的稀釋方法，該壓力篩包括在篩網內旋轉且距篩網有一定距離的轉子，輸入漿料被供給到由所述轉子和所述篩網之間的間隔形成的篩選區內，一部分輸入漿料穿過篩網進入良漿區成為良漿，余下的輸入漿料被排放到漿渣區成為漿渣流，其中，稀釋水直接添加到漿渣區，且添加到漿渣流中的稀釋水量是漿渣流量的0.8至3.5倍。本發明還涉及一種壓力篩，該壓力篩包括稀釋水添加裝置，該稀釋水添加裝置適于將稀釋水直接添加到漿渣區，其中，添加到漿渣流中的稀釋水量是漿渣流量的0.8至3.5倍。

技術領域

本發明涉及一種用于壓力篩的稀釋方法和相應的壓力篩。

背景技術

具有若干轉子、篩框或篩板的壓力篩通常被用于從纖維懸浮液中篩除雜質。在該種篩選過程中，由于一定的過濾效果，在篩選表面(多孔篩框、狹縫篩框或者是篩板)上會有一定的濃縮效果。最為常用的若干篩網是利用出流原理的框狀篩網，這意味著在一個多孔篩框或是一個狹縫篩框內配有一個轉子，其在一定距離內持續地清潔篩選表面。

在市場上有很多不同形狀和輪廓的轉子，但所有這些轉子都關注于朝向篩選表面產生壓力和抽吸脈沖。

然而，濃縮發生于所述篩框的高度上。通常，濃度隨著高度降低(意味著在較靠近漿渣排出口的位置)而上升。漿渣具有最高的濃度而良漿具有最低的濃度。這實際上是一種不希望的效果，既限制了性能又增加了功率，并且由此增大了能耗，由于所述濃度上升，更少的纖維可以穿過所述篩框而且摩擦則增加了功耗。

在現有技術中，存在通過將稀釋水添加到漿渣區內或是將某些部件/區域內的水直接添加到該篩選區內而減少這種濃縮的若干措施。

添加水到所述篩選區內通常涉及若干復雜的結構。添加水到漿渣區內通常使用漿渣流量范圍為20-40％的稀釋水量。通常地，當稀釋水量超過漿渣流的40％時，由于稀釋水被添加到篩選區(篩框)下方的漿渣室內，篩選區內的漿渣流量限制導致電機負載增加。在那種情況下，該稀釋實際上僅是在該壓力篩的漿渣室內而并非在轉子和篩框之間的篩選區內降低濃度。換而言之，當稀釋水流向篩選區時，由于該篩選區內的高濃度，稀釋水難以更深地流入到該篩選區內以降低濃度。因此，在本領域中可以觀察到，當添加水大于漿渣流量的40％時，水將主要通過“捷徑”到達漿渣排出口，而不會進入篩選區，而若干篩網傾向于過載。圖2提供了另一種壓力篩的應用，其包括一種稀釋水添加裝置，適用于將稀釋水直接添加到所述壓力篩的篩選區內，其中被添加到篩選區的稀釋水的總量可以為漿渣流的40-70％，然而如果所述稀釋水量繼續增加，該稀釋(水)基本上直接地“噴射”穿過篩框進入到良漿區，并且由此不能被充分地用于降低篩選區內的所述濃度。此外，這種設置既復雜又昂貴。

因此，有必要提供一種盡可能簡單且經濟，并且沒有負面影響篩選操作的連續稀釋。

發明內容

如同廣泛使用的是，將稀釋水添加到漿渣區；然而，稀釋水使用量在此是主要區別。正如上文所述，如果稀釋水達到了漿渣流量的40％以上，篩選操作則變得困難，功率增加并且通常需監控堵塞和電機過載。然而，在申請人近期的研究中已經發現，如果稀釋水量甚至比漿渣流(量)高，濃縮因子會持續降低，甚至電機負載也會降低。

因此，為解決上述技術問題提供一種用于壓力篩的稀釋方法，所述壓力篩包括一個在篩網內旋轉且距篩網有一定距離的轉子，輸入漿料被供給到由該轉子和該篩網之間的間隔形成的篩選區內，一部分輸入漿料穿過該篩網進入良漿區成為良漿，余下的輸入漿液被排放到漿渣區內成為漿渣流，其中被添加到漿渣流內的稀釋水量是漿渣流量的0.8到3.5倍，優選地為漿渣流總量的1.6到2.2倍，這取決于篩選層級和漿料。

這樣，漿渣率得以降低，這意味著將使用越來越小的和/或越來越少的后續工作級，從而降低了功耗并降低了投資成本。此外，大量的稀釋水降低了篩選區的濃度，也降低了堵塞風險。