[發明專利]一種從半導體顯影廢水中回收四甲基氯化銨的方法有效
| 申請號： | 202110464087.8 | 申請日： | 2021-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN113200869B | 公開（公告）日： | 2023-06-23 |
| 發明（設計）人： | 仲超;樊振壽;孔磊;王枝松;倪東原 | 申請（專利權）人： | 南京長江江宇環保科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C07C209/86 | 分類號： | C07C209/86;C07C211/63;C02F1/00;C02F1/04;C02F101/36 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 210047 江蘇省南*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 半導體 顯影 水中 回收 甲基 氯化銨 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種從半導體顯影廢水中回收四甲基氯化銨的方法，其特征在于，由以下步驟構成：
步驟（1）：將四甲基氯化銨廢水過濾后加入減壓蒸餾裝置中進行蒸發結晶；
步驟（2）：向步驟（1）蒸發結晶后的蒸發釜內加入清洗劑進行第一次清洗，清洗后進行抽濾；
步驟（3）：對步驟（2）得到的晶體用清洗劑進行第二次清洗，清洗后進行抽濾；
步驟（4）：將步驟（3）得到的晶體置于真空干燥箱內干燥，干燥后得到白色四甲基氯化銨晶體；
步驟（1）中減壓蒸發結晶的絕對壓力為1~5?kPa；
步驟（2）和步驟（3）中清洗所用清洗劑均為乙酸乙酯；
步驟（2）中清洗劑用量與四甲基氯化銨廢水的質量比為3:16?~?3:8；
步驟（3）中清洗劑用量與四甲基氯化銨廢水的質量比為1:8?~?1:4。
2.根據權利要求1所述的從半導體顯影廢水中回收四甲基氯化銨的方法，其特征在于，步驟（2）和步驟（3）中清洗時間均為2~3h。
3.根據權利要求1所述的從半導體顯影廢水中回收四甲基氯化銨的方法，其特征在于，步驟（4）中真空干燥溫度為40~60℃。
4.根據權利要求1所述的從半導體顯影廢水中回收四甲基氯化銨的方法，其特征在于，步驟（4）中真空干燥時長為3~6h。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于南京長江江宇環保科技股份有限公司，未經南京長江江宇環保科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110464087.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種金剛滾輪圓弧修整器
- 下一篇：停止后自動充電功能自行車燈
