[發明專利]基站設備及表面清潔系統有效
| 申請號: | 202110456096.2 | 申請日: | 2021-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN113243858B | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發明(設計)人: | 曹力;唐成;段飛;鐘亮 | 申請(專利權)人: | 北京順造科技有限公司 |
| 主分類號: | A47L11/40 | 分類號: | A47L11/40;A47L11/282 |
| 代理公司: | 北京庚致知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11807 | 代理人: | 韓德凱;李曉輝 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基站設備 表面 清潔 系統 | ||
本公開提供了一種可拆式托盤,包括:承載部;清洗槽;以及斜面部,斜面部設置在承載部與清洗槽之間,斜面部朝向清洗槽的方向傾斜。本公開還提供了一種基站設備以及一種表面清潔系統。
技術領域
本公開屬于清潔技術領域,本公開尤其涉及一種基站設備及表面清潔系統。
背景技術
現有技術中的表面清潔裝置通常可以用于加濕擦洗清潔硬地板或短毛地毯,其通常具有一個或多個由毛織材料制成的滾刷或清潔盤,可以通過添加水或水/清潔劑混合物來擦洗地板上的頑固污垢。
當表面清潔裝置在污垢上移動時,已經被滾刷擦掉并被水或水/洗滌劑混合物溶解的污垢通過沿滾刷運動方向排列的清潔頭吸起,在設置清潔盤的技術中,可以不設置清潔頭,污垢直接被清潔盤上的清潔材料吸附。真空式濕式表面清潔裝置的清潔效果,在硬地板上是顯著有效的。
在清潔完畢之后,表面清潔裝置往往要回到基站(供應裝置)進行滾刷自清潔,否則下次清潔時會造成二次污染。
現有技術中多采用托盤支撐滾刷,托盤上設置瀝水槽,滾刷在托盤上自轉,在托盤自帶的刮板或者清潔刷的作用下配合噴頭的噴水將滾刷表面上的臟污刮除。
例如,中國專利CN106725135A公開了基站和清潔機器人系統,其將傳統手動式拖把清潔結構應用于基站上,實現對圓盤式擦地機器人的圓盤抹布進行自動清理。
再例如,日本專利JP2020192428A公開了表面清潔裝置,其公開了在托盤上進行自清潔,托盤貯槽可收集過量液體,以最終被吸嘴抽取。
然而,上述基站上的清潔托盤都不可拆卸,維護清理不便,且托盤結構設計不合理。
發明內容
為了解決上述技術問題中的至少一個,本公開提供一種基站設備及表面清潔系統,本公開的基站設備及表面清潔系統通過以下技術方案實現。
根據本公開的一個方面,提供一種基站設備,包括:
基座,所述基座具有腔體結構,所述基座上形成有基座進氣部及基座出風部;以及,
上述任一項所述的可拆式托盤,所述可拆式托盤能夠可拆卸地設置在所述基座上,以使得所述基座出風部導出的氣流流經所述可拆式托盤的清洗槽。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,還包括烘干機構,所述烘干機構設置在所述基座的腔體結構之內,所述烘干機構對經由所述基座進氣部進入的氣流進行加熱,并將加熱后的氣流經由所述基座出風部輸出。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,所述基座具有基座主殼體及基座上殼體,所述基座主殼體與所述基座上殼體可拆卸地連接。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,所述基座的一端形成有凸起部,所述基座出風部設置在所述凸起部上。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,所述凸起部形成在所述基座主殼體上,且所述凸起部上形成主殼體出風部,所述主殼體出風部作為所述基座出風部。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,所述基座上殼體上形成有容納凹槽,所述可拆式托盤至少部分地設置在所述基座上殼體的所述容納凹槽之內。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,導風部對所述主殼體出風部的出風進行導向,將主殼體出風部的出風導向為朝向所述可拆式托盤的清洗槽。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,導風部包括多個導風元件,所述導風元件上形成出風口,所述導風元件的出風口朝向所述清洗槽。
根據本公開的至少一個實施方式的基站設備,所述可拆式托盤與所述基座上殼體通過磁性組件可拆卸地固定連接。
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