[發(fā)明專利]一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110453388.0 | 申請(qǐng)日： | 2021-04-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113109963B | 公開（公告）日： | 2022-08-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 凌安愷;周莉梅;沈柏平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1333 | 分類號(hào)： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 361101 福建*** | 國(guó)省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 陣列 液晶顯示 面板 顯示裝置 | ||
本發(fā)明提供一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置，陣列基板包括：襯底；掃描線和數(shù)據(jù)線，位于所述襯底的同一側(cè)，多條所述掃描線沿第一方向延伸并沿第二方向排列，多條所述數(shù)據(jù)線沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向排列，所述第一方向與所述第二方向交叉；第一加熱電極和第二加熱電極，均與所述掃描線位于所述襯底的同一側(cè)，多條所述第一加熱電極沿所述第二方向排列，多條所述第二加熱電極沿所述第一方向排列；所述第一加熱電極與所述第二加熱電極異層，并通過過孔電連接。本發(fā)明提供一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置，以解決液晶顯示面板在低溫狀態(tài)下的顯示不良。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù)
由于經(jīng)常需要處于特殊的工作環(huán)境中，軍用或者車載顯示用液晶顯示裝置，要求能適應(yīng)的環(huán)境溫度范圍較大，有時(shí)甚至?xí)笤?20℃至55℃溫度范圍內(nèi)能正常工作。因此在軍用或者車載顯示用液晶顯示裝置研制中，必須采取措施，拓寬液晶顯示裝置的低溫工作范圍，確保其在低溫環(huán)境中能正常工作。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置，以解決液晶顯示面板在低溫狀態(tài)下的顯示不良。
第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板，包括：
襯底；
掃描線和數(shù)據(jù)線，位于所述襯底的同一側(cè)，多條所述掃描線沿第一方向延伸并沿第二方向排列，多條所述數(shù)據(jù)線沿所述第二方向延伸并沿所述第一方向排列，所述第一方向與所述第二方向交叉；
第一加熱電極和第二加熱電極，均與所述掃描線位于所述襯底的同一側(cè)，多條所述第一加熱電極沿所述第二方向排列，多條所述第二加熱電極沿所述第一方向排列；
所述第一加熱電極與所述第二加熱電極異層，并通過過孔電連接。
第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種液晶顯示面板，包括第一方面所述的陣列基板、液晶層和彩膜基板，所述液晶層位于所述陣列基板與所述彩膜基板之間。
第三方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括第二方面所述的液晶顯示面板。
本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板中，多條第一加熱電極沿第二方向排列，多條第二加熱電極沿第一方向排列，從而多條第一加熱電極和多條第二加熱電極交叉形成加熱網(wǎng)格，從而提高對(duì)液晶顯示面板中的液晶分子加熱的均勻性。進(jìn)一步地，第一加熱電極與第二加熱電極異層電連接，從而無需為相互電連接的第一加熱電極和第二加熱電極分別設(shè)置導(dǎo)線，減少了連接第一加熱電極和第二加熱電極的導(dǎo)線的數(shù)量，且由于第一加熱電極和第二加熱電極分別具有不同的排列方向，因此將第一加熱電極和第二加熱電極分別設(shè)置在不同的膜層，可以降低第一加熱電極和第二加熱電極的設(shè)置難度。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為沿圖1中AA’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5為沿圖4中BB’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖8為沿圖7中CC’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖10為沿圖9中DD’方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
