[發明專利]一種光源及其制備方法

有效

• 申請號: 202110434719.6
• 申請日: 2021-04-22
• 公開（公告）號: CN113257961B
• 公開（公告）日: 2022-12-13
• 發明（設計）人: 姚黎曉;王春陽;陳細俊
• 申請（專利權）人: 惠州視維新技術有限公司
• 主分類號: H01L33/00
• 分類號: H01L33/00;H01L27/15
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 遠明

1.一種制備光源的方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板一側設置有凹槽，所述凹槽具有底壁和環繞所述底壁設置的側壁，相鄰兩個凹槽的側壁之間形成間隔塊，所述底壁上設置有第一電極，所述側壁的第一預設區域設置有第二電極，所述第二電極上覆蓋有第一絕緣層；

向所述凹槽注入預設體積的親水液滴，使得所述親水液滴分別與所述第一電極和所述第一絕緣層接觸；

將光源元件的一部分置于所述間隔塊上，另一部分置于所述凹槽上方；

調整所述第一電極和所述第二電極之間的電壓；

根據所述電壓的變化調整所述親水液滴的形狀，以基于所述親水液滴的形狀變化使所述光源元件轉移至所述凹槽內。

2.根據權利要求1所述的制備光源的方法，其特征在于，所述根據所述電壓的變化調整所述親水液滴的位移，以基于所述親水液滴的形狀變化使所述光源元件轉移至所述凹槽內，包括：

增加電壓至第一預設電壓值，以驅動所述親水液滴向所述光源元件的一側靠近，直至所述光源元件與所述親水液滴接觸；

降低電壓至第二預設電壓值，以使所述親水液滴向所述光源元件的一側遠離，并帶動所述光源元件移動，直至所述光源元件轉移至所述凹槽內，其中，所述第一預設電壓值大于所述第二預設電壓值。

3.根據權利要求1所述的制備光源的方法，其特征在于，所述將光源元件的一部分置于所述間隔塊上，另一部分置于所述凹槽上方，包括：

以疏水液體作為載體，通過控制所述疏水液體的流速帶動所述光源元件從原始位置移動，以使移動位置后的所述光源元件的一部分置于所述間隔塊上，另一部分置于所述凹槽上方。

4.根據權利要求1所述的制備光源的方法，其特征在于，所述凹槽底壁設置有開合機構；

在所述光源元件轉移至所述凹槽內之后，所述方法還包括：

通過所述開合機構使所述親水液滴從所述凹槽移除，以使得所述光源元件滑落至與所述凹槽底壁貼合。

5.根據權利要求4所述的制備光源的方法，其特征在于，所述開合機構包括：連接桿、推塊和堵塊，所述底壁上設置有開口，所述連接桿穿過所述開口且與所述開口活動配合，所述堵塊位于所述連接桿伸入所述凹槽的一端，所述堵塊位于所述連接桿的另一端，所述堵塊蓋設在所述開口上；

所述通過所述開合機構使所述親水液滴從所述凹槽移除，包括：

推動所述推塊，通過所述連接桿使所述堵塊沿所述開口的方向運動，以使所述底壁的開口露出后所述親水液滴從所述開口漏出，直至所述親水液滴全部移除；

拉回所述推塊，通過所述連接桿使所述堵塊沿所述開口的方向運動，直至所述堵塊蓋設在所述開口上。

6.根據權利要求4所述的制備光源的方法，其特征在于，在所述以使得所述光源元件滑落至與所述凹槽底壁貼合之后，包括：

通過焊接使所述光源元件和所述凹槽底壁固定連接。

7.根據權利要求1至6任一權利要求所述的制備光源的方法，其特征在于，所述親水液滴的液面高度小于所述凹槽深度。

8.一種光源，其特征在于，包括：

一基板，所述基板一側設置有凹槽，所述凹槽包括底壁和環繞所述底壁設置的側壁，所述凹槽陣列排列，相鄰兩個凹槽的側壁之間形成間隔塊，第一絕緣層位于所述側壁的第一預設區域；

光源元件，所述光源元件與所述凹槽底壁固定連接；

開合機構，所述開合機構位于所述凹槽底壁，所述開合機構包括：連接桿、推塊和堵塊，所述底壁上設置有開口，所述連接桿穿過所述開口且與所述開口活動配合，所述堵塊位于所述連接桿伸入所述凹槽的一端，所述推塊位于所述連接桿的另一端，所述堵塊蓋設在所述開口上，蓋設在所述開口上的各個所述堵塊通過同一所述連接桿連接。