[發(fā)明專利]透鏡參數確定方法、裝置、電子設備、存儲介質和透鏡

有效

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• 申請日: 2021-04-22
• 公開（公告）號: CN112987293B
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 何建行;邵文龍;鄧冬巖;伏繼光;劉諭陪;唐志鋒
• 申請（專利權）人: 生物島實驗室
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G02B30/27
• 代理公司: 北京智信四方知識產權代理有限公司 11519
• 代理人: 葛啟宏;呂雁葭

1.一種透鏡參數確定方法，包括：

子像素大小獲取步驟，其中，基于顯示屏幕大小和像素數量，獲取子像素大小；

莫爾條紋空間頻率計算步驟，其中，基于最大截止對比度，計算莫爾條紋空間頻率的取值范圍；

周期比值計算步驟，其中，基于所述莫爾條紋空間頻率的取值范圍和子像素空間頻率，計算周期比值的取值范圍；

齒寬計算步驟，其中，基于所述子像素大小和所述周期比值的取值范圍，計算透鏡單元的直角齒的齒寬的取值范圍，并限定表面粗糙度和齒尖角，其中，

所述透鏡單元包括：直角齒和雙工作面齒，所述直角齒設置于所述透鏡單元的中間部分，所述雙工作面齒設置于所述透鏡單元的外側部分，

所述透鏡單元的齒的參數計算的適用范圍包括：直角齒和雙工作面齒，

所述雙工作面齒的齒寬小于所述直角齒的齒寬乘以特定倍率。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述莫爾條紋空間頻率計算步驟包括：

基于最大截止對比度，先采用光場仿真計算對比度粗略范圍，再使用對比敏感度閾值計算所述莫爾條紋空間頻率的取值范圍。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述周期比值計算步驟包括：

基于瞳孔到透鏡的距離，透鏡視場角和透鏡視場角內的子像素個數計算子像素空間頻率；

使用哈密爾頓量，基于所述莫爾條紋空間頻率的取值范圍和所述子像素空間頻率，計算所述周期比值的取值范圍。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述直角齒的斜面遠離所述透鏡單元的中心，

所述雙工作面齒的第一工作面遠離所述透鏡單元的中心，所述雙工作面齒的第二工作面靠近所述透鏡單元的中心。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，還包括：

直角齒頂端平滑處理步驟，其中，使用弧面對所述直角齒的頂端進行平滑處理。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述直角齒頂端平滑處理步驟包括：

使用所述直角齒的寬度，所述雙工作面齒的所述第一工作面的寬度，和所述雙工作面齒的所述第二工作面的寬度計算圓弧的特定半徑；

使用具有所述特定半徑的所述圓弧對所述直角齒的頂端進行平滑處理。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，還包括：

雙工作面齒表面粗糙處理步驟，其中，使用粗糙度對所述雙工作面齒的所述第二工作面進行粗糙處理。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述雙工作面齒表面粗糙處理步驟包括：

基于最大粗糙度，最小粗糙度和調控因子，使用粗糙度計算函數計算所述粗糙度，使用所述粗糙度對所述雙工作面齒的所述第二工作面進行粗糙處理。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

將至少兩個所述透鏡單元拼接為透鏡陣列。

10.一種透鏡參數確定裝置，包括：

子像素大小獲取模塊，被配置為基于顯示屏幕大小和像素數量，獲取子像素大小；

莫爾條紋空間頻率計算模塊，被配置為基于最大截止對比度，計算莫爾條紋空間頻率的取值范圍；

周期比值計算模塊，被配置為基于所述莫爾條紋空間頻率的取值范圍和子像素空間頻率，計算周期比值的取值范圍；

齒寬計算模塊，被配置為基于所述子像素大小和所述周期比值的取值范圍，計算透鏡單元的直角齒的齒寬的取值范圍，并限定表面粗糙度和齒尖角，其中，

所述透鏡單元包括：直角齒和雙工作面齒，所述直角齒設置于所述透鏡單元的中間部分，所述雙工作面齒設置于所述透鏡單元的外側部分，

所述透鏡單元的齒的參數計算的適用范圍包括：直角齒和雙工作面齒，

所述雙工作面齒的齒寬小于所述直角齒的齒寬乘以特定倍率。