[發(fā)明專利]一種PCB線路的成型方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110400895.8 | 申請日: | 2021-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN113133215A | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周建軍;李旋;張記生 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市深聯(lián)電路有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/02 | 分類號: | H05K3/02;H05K3/06 |
| 代理公司: | 深圳壹舟知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44331 | 代理人: | 歐志明 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 pcb 線路 成型 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種PCB線路的成型方法,該方法用錫層代替干膜和濕膜的保護(hù)作用,摒棄了大量與干膜和濕膜配套的一系列物料及設(shè)備,降低了人力和物力成本,同時減少了線路成型過程中開短路的產(chǎn)生,提高了產(chǎn)品良率,并減少了廢水排出,保護(hù)了環(huán)境。用激光燒蝕工藝代替蝕刻工藝,簡化了PCB內(nèi)外層線路的工藝流程,縮短了PCB產(chǎn)品整個生產(chǎn)周期,并極大地提高了精細(xì)線路制作的良率。利用了錫不與特定蝕刻藥水反應(yīng)的特性,用錫代替干膜的封孔作用,突破了內(nèi)層線路金屬化孔孔徑的限制。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于PCB制造領(lǐng)域,尤其涉及一種PCB線路的成型方法。
背景技術(shù)
目前PCB線路成型有濕膜法以及干膜法兩種:
一、濕膜法工藝流程如下:
1、在覆銅板上涂覆上一層感光濕膜a,此過程統(tǒng)稱為涂覆濕膜;(覆銅板結(jié)構(gòu)如圖1所示,涂覆感光濕膜a后如圖2所示);
2、貼膜后按PCB設(shè)計的目標(biāo)線路圖形給予一定的能量與波長的光使感光濕膜a局部產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng),反應(yīng)后的感光濕膜a具有抗弱堿性,此過程統(tǒng)稱為曝光(如圖3所示);
3、曝光后使用特定弱堿性溶液使未產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光濕膜a反應(yīng)溶解掉,露出銅箔層1,此過程統(tǒng)稱為顯影(如圖4所示);
4、顯影后將露出的銅箔層1利用特定化學(xué)藥水蝕刻溶解掉(產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光濕膜a不與特定化學(xué)藥水反應(yīng)),露出介質(zhì)層3表面,此過程統(tǒng)稱為蝕刻(如圖5所示);
5、蝕刻后使用特定強(qiáng)堿性溶液將產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光濕膜a反應(yīng)溶解掉,此過程統(tǒng)稱為褪膜,從而形成PCB所需要的線路圖形(如圖6所示)。
濕膜法工藝存在以下缺點:
1、由于感光濕膜a具有流動性,且行業(yè)內(nèi)基本采用垂直涂覆的方式(節(jié)約空間),受重力影響,涂覆在覆銅板上的感光濕膜a厚度均勻性相較于干膜較差,此細(xì)微差異會導(dǎo)致線路蝕刻后的線寬間距均勻性亦比干膜法較差,尤其體現(xiàn)在精細(xì)線路制作方面。
2、感光濕膜a涂覆的方式、感光濕膜a本身的流動性和曝光方式?jīng)Q定了濕膜法不適用于有金屬化孔的內(nèi)層線路制作,此工藝方法無法完全保證金屬化孔壁完全涂覆上一層感光濕膜a,且曝光時由于是垂直曝光,僅金屬化孔孔口位置的一層感光濕膜a會產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng),孔中間未產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光濕膜a會被顯影溶解掉,后續(xù)蝕刻時會將孔中間的銅箔層1蝕刻掉,所以無法保證完整的電性能。
二、干膜法工藝流程如下:
PCB上無金屬化孔:
1、在覆銅板上貼感光干膜b,此過程統(tǒng)稱為貼膜;(覆銅板結(jié)構(gòu)如圖1所示,貼膜后如圖7所示);
2、貼膜后按PCB設(shè)計的目標(biāo)線路圖形給予一定的能量與波長的光使感光干膜b局部產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng),反應(yīng)后的感光干膜b具有抗弱堿性,此過程統(tǒng)稱為曝光(如圖8所示);
3、曝光后使用特定弱堿性溶液使未產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光干膜b反應(yīng)溶解掉,露出銅箔層1,此過程統(tǒng)稱為顯影(如圖9所示);
4、顯影后將露出的銅箔層1利用特定化學(xué)藥水蝕刻溶解掉(產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光干膜b不與特定化學(xué)藥水反應(yīng)),露出介質(zhì)層3表面,此過程統(tǒng)稱為蝕刻(如圖10所示);
5、蝕刻后使用特定強(qiáng)堿性溶液將產(chǎn)生光聚合交聯(lián)反應(yīng)的感光干膜b反應(yīng)溶解掉,此過程統(tǒng)稱為褪膜,從而形成PCB所需要的線路圖形(如圖5所示)。
PCB上有金屬化孔:
1、在覆銅板上鉆孔;(覆銅板結(jié)構(gòu)如圖1所示,鉆孔后如圖11所示);
2、鉆孔后在銅箔層1表面和孔壁通過電化學(xué)原理鍍覆上一層銅(鍍覆銅4),以實現(xiàn)上下銅箔層1導(dǎo)通,此過程統(tǒng)稱為全板電鍍(如圖12所示);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市深聯(lián)電路有限公司,未經(jīng)深圳市深聯(lián)電路有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110400895.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





