[發明專利]一種用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝有效
| 申請號: | 202110397010.3 | 申請日: | 2021-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN113133225B | 公開(公告)日: | 2021-10-26 |
| 發明(設計)人: | 丁先峰;李良華 | 申請(專利權)人: | 廣州皓悅新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/42 | 分類號: | H05K3/42 |
| 代理公司: | 廣州科沃園專利代理有限公司 44416 | 代理人: | 張帥;陸豐艷 |
| 地址: | 510635 廣東省廣州市高新*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 多層 hdi 水平 工藝 | ||
1.一種用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,步驟如下:
S1在超聲條件下,使用膨松液對基材進行膨松處理,超聲功率為100-200W,膨松溫度為70-80℃,膨松時間為60-90S,水洗,得膨松處理后基材;
S2在超聲條件下,使用除膠劑對步驟S1所得膨松處理后基材進行除膠處理,超聲功率為100-200W,除膠溫度為75-85℃,除膠時間為150-180S,水洗,得除膠處理后基材;
S3使用預中和劑對步驟S2所得除膠處理后基材進行預中和處理,預中和溫度為20-30℃,預中和時間為8-15S,使用中和液對預中和后的基材進行中和處理,中和溫度為25-35℃,中和時間為30-40S,水洗,得中和處理后基材;
S4在超聲條件下,使用整孔劑對步驟S3所得中和處理后基材進行整孔處理,超聲功率為100-200W,整孔溫度為40-50℃,整孔時間為35-45S,水洗,得整孔處理后基材;
S5使用微蝕劑對步驟S4所得整孔處理后基材進行微蝕處理,微蝕溫度為20-30℃,微蝕時間為40-50S,水洗,得微蝕處理后基材;
S6使用預浸劑對步驟S5所得微蝕處理后基材進行預浸處理,預浸溫度為20-30℃,預浸時間為10-20S,在超聲條件下,使用活化劑對預浸后的基材進行活化處理,超聲功率為100-200W,活化溫度為40-50℃,活化時間為40-50S,水洗,得活化處理后基材;
S7使用還原液對步驟S6所得活化處理后基材進行還原處理,還原溫度為20-30℃,還原時間為30-40S,水洗,得還原處理后基材;
S8將步驟S7所得還原處理后基材浸入水平沉銅液中進行沉銅,水洗,烘干;所述步驟S8所述水平沉銅液包括以下質量濃度的組分:五水硫酸銅14-20g/L,還原劑10-17g/L,絡合劑15-20g/L,附著力增強劑3-5g/L,檸檬酸銨17-22g/L,順丁烯二酸3-8mg/L;
所述附著力增強劑由羥乙基纖維素和非離子聚丙烯酰胺按質量比12-15:2-3組成。
2.如權利要求1所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述活化劑包括以下質量濃度的組分:二氨基吡啶40-60g/L,硫酸鈀8-15g/L,氫氧化鈉4-6g/L,聚乙二醇4-6g/L。
3.如權利要求2所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述活化劑包括以下質量濃度的組分:二氨基吡啶50g/L,硫酸鈀11.2g/L,氫氧化鈉5g/L,聚乙二醇5g/L。
4.如權利要求2所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述聚乙二醇的分子量為8000。
5.如權利要求1所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述水平沉銅液包括以下質量濃度的組分:五水硫酸銅16g/L,還原劑14g/L,絡合劑18g/L,附著力增強劑4g/L,檸檬酸銨21g/L,順丁烯二酸7mg/L。
6.如權利要求1所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述附著力增強劑由羥乙基纖維素和非離子聚丙烯酰胺按質量比13:2組成。
7.如權利要求1所述的用于多層板和HDI板的水平沉銅工藝,其特征在于,所述沉銅的條件為:溫度為25-35℃,時間為200-280S。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州皓悅新材料科技有限公司,未經廣州皓悅新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110397010.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





