[發明專利]平面度測定方法

有效

• 申請號: 202110393143.3
• 申請日: 2018-02-21
• 公開（公告）號: CN113295077B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發明（設計）人: 金內伸朗
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G01B5/28
• 分類號: G01B5/28;G01C9/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 任天諾;高培培

本發明提供能夠簡便地測定大量的銷的上端所構成的假想面那樣的面的平面度的平面度測定方法。在使在具有平坦的上表面以及下表面且厚度均勻的測定板(5)上安裝有水平儀(6)的測定單元(4)載置在大量的銷(3)中的相鄰的三根銷(3)上的狀態下，利用水平儀(6)對正交的兩個水平方向上的測定板(5)的傾斜進行測定，對各三根銷(3)依次進行該步驟。在第二次以后的步驟中，重復選擇此前選擇過的銷(3)中的一個并且針對所有的銷(3)對測定板(5)的傾斜進行測定。根據測定板(5)的傾斜，將上端處于最高的位置的銷(3)與上端處于最低的位置的銷(3)之間的高度的差異作為平面度而計算。

本申請為2018年2月21日申請的、申請號為201880001042.3的、發明名稱為“平面度測定方法以及銷高度調整方法”的申請的分案申請。

技術領域

本申請的發明涉及求出大量的銷的上端所構成的假想面等的面的平面度的技術。

背景技術

某個面以較高的精度成為平面作為產品的性能而經常被要求。該情況下的某個面有時為假想的面(假想面)，也有時為實際的部件的表面。

大量的銷的上端所構成的假想面具有較高的平面度例如在一邊使用這樣的銷來保持對象物一邊操作對象物的裝置中變得需要。示出更具體的例子，在各種電子產品、各種顯示器產品的制造中，為了在基板的表面制造微小形狀，而進行光刻。在光刻中，存在將基板保持為水平并且將規定的圖案的光照射于基板的曝光工序。在曝光工序中，根據使相對于基板的接觸面積盡可能小等的要求，有時采用通過垂直的姿勢的大量的銷來保持基板的構造。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-18927號公報

發明內容

發明要解決的問題

在上述那樣的曝光裝置中，從獲得精度高的曝光圖案的觀點出發，基板需要以較高的精度保持水平姿勢。這意味著：在為通過大量的銷來保持基板的構造的情況下，由這些銷的上端所構成的假想面需要具有較高精度的平面度。

然而，發明者進行了調查，能夠簡便地測定這樣的大量的銷的上端所構成的假想面的平面度的實用的技術至今不存在。

本申請的發明是考慮到這點而完成的，其課題在于提供能夠簡便地測定大量的銷的上端所構成的假想面那樣的面的平面度的實用的技術。

用于解決問題的手段

為了解決上述課題，該申請的技術方案1所述的發明是平面度測定方法，將水平方向的配置為已知且垂直延伸的大量的銷的上端的高度方向的位置的不同作為該大量的銷的前端所構成的假想面的平面度來測定，其中，

所述平面度測定方法是使用測定單元的方法，所述測定單元包含具有平坦的上表面和下表面且厚度均勻的測定板；和安裝在測定板之上的水平儀，

所述平面度測定方法包括三點測定步驟，在所述三點測定步驟中，選擇大量的銷中的相鄰的三根銷，在使測定單元載置于選擇出的三根銷之上的狀態下，通過水平儀對正交的兩個水平方向上的測定板的傾斜進行測定，

所述平面度測定方法通過依次對各三根銷進行三點測定步驟來測定平面度，

第二次以后的三點測定步驟是重復選擇此前選擇出的銷中的一個而進行測定的步驟，

所述平面度測定方法是通過依次進行三點測定步驟而針對所有的銷，通過水平儀對測定板的傾斜進行測定的方法，

所述平面度測定方法包括：根據各三點測定步驟中的在上述兩個水平方向上的側頂板的傾斜，來對上端處于最高的位置的銷與上端處于最低的位置的銷之間的該高度的差異進行計算的步驟。