[發(fā)明專利]一種增強(qiáng)太陽能電池光吸收的微納混合結(jié)構(gòu)及制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110384144.1
• 申請(qǐng)日: 2021-04-09
• 公開（公告）號(hào): CN113299776A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳樂;方博聞;羅煒;孫嘉偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 桂林電子科技大學(xué)
• 主分類號(hào): H01L31/0236
• 分類號(hào): H01L31/0236;H01L31/0445;H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.本發(fā)明提供的是一種增強(qiáng)太陽能電池光吸收的微納混合結(jié)構(gòu)及制備方法。其特征是：金字塔結(jié)構(gòu)硅片(a)通過化學(xué)腐蝕法制備得到微納混合結(jié)構(gòu)，簡(jiǎn)稱黑硅(b)，然后以黑硅(b)為模板，在其結(jié)構(gòu)面上澆筑PDMS膠，得到黑硅和PDMS膠的混合結(jié)構(gòu)體(c)，最后通過脫模過程得到表面微納混合結(jié)構(gòu)PDMS薄膜(d)。所述制備方法中，金字塔結(jié)構(gòu)硅片(a)清洗后固定于玻璃襯底，然后用化學(xué)試劑在硅片上刻蝕納米線陣列，清洗并烘干后制備得到黑硅(b)；接著以黑硅為模板，將調(diào)配好的PDMS膜澆筑在黑硅的金字塔結(jié)構(gòu)面，并進(jìn)行抽真空處理，得到黑硅與PDMS的混合結(jié)構(gòu)體(c)；最后恒溫70度加熱至PDMS膠完全固化，再采用拔模工藝將黑硅(b)與PDMS膠膜分離，得到具有表面微納混合結(jié)構(gòu)的PDMS膠膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面微納混合結(jié)構(gòu)。其特征是：所述的表面微納混合結(jié)構(gòu)是以黑硅為模板，然后將PDMS膠澆筑在黑硅結(jié)構(gòu)表面，恒溫固化后，經(jīng)拔模工藝后制備得到；該結(jié)構(gòu)是由微米尺度的金字塔結(jié)構(gòu)和納米尺度的納米線陣列結(jié)構(gòu)組成的雙重抗反射結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PDMS膠膜。其特征是：PDMS膠膜中金字塔結(jié)構(gòu)的周期為10μm-20μm，納米線陣列結(jié)構(gòu)的高度為50nm-100nm。