[發(fā)明專利]一種集流體及其應用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110382243.6 | 申請日： | 2021-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN113113566A | 公開（公告）日： | 2021-07-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 趙偉;張趙帥;李素麗 | 申請（專利權(quán)）人： | 珠海冠宇電池股份有限公司 |
| 主分類號： | H01M4/13 | 分類號： | H01M4/13;H01M4/66;H01M10/0525;H01M50/536 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 張娜;臧建明 |
| 地址： | 519180 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 流體 及其 應用 | ||
1.一種集流體，其特征在于，包括中間層和設置在所述中間層的兩個功能表面的第一導電層和第二導電層；
所述中間層在所述集流體的長度方向和/或?qū)挾确较蛏习ń^緣部分和金屬部分，所述絕緣部分包括凹部，所述金屬部分包括凸部，所述凸部嵌入所述凹部中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集流體，其特征在于，所述金屬部分包括所述凸部和所述凸部連接的金屬主體，所述凸部與所述金屬主體之間具有階梯面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集流體，其特征在于，所述金屬部分包括所述凸部和所述凸部連接的金屬主體，所述凸部的厚度在遠離所述凹部的方向上逐漸增加。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集流體，其特征在于，所述凸部的邊緣和凹部的邊緣為曲面過渡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集流體，其特征在于，所述金屬部分包括所述凸部以及金屬主體，所述凸部包括第一凸部和第二凸部，所述第一凸部通過所述第二凸部與所述金屬主體連接；
所述第二凸部的厚度在遠離所述第一凸部的方向上逐漸增加。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的集流體，其特征在于，所述第二凸部的邊緣和與所述第二凸部對應的凹部的邊緣為曲面過渡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的集流體，其特征在于，所述金屬部分在所述中間層的任一個功能表面上的投影面積與所述任一個功能表面的面積之比≤50％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項所述的集流體，其特征在于，所述凹部的長度小于等于10mm。
9.一種極片，其特征在于，所述極片包括權(quán)利要求1-8任一項所述的集流體；
金屬部分非凸部的功能表面包括極耳區(qū)域；和/或，
金屬部分非凸部對應的所述第一導電層和/或所述第二導電層遠離所述中間層的表面包括極耳區(qū)域。
10.一種電化學裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求9所述的極片。
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