[發明專利]一種利用圖形化襯底壓印制備石墨烯納米網的方法在審
| 申請號： | 202110377003.7 | 申請日： | 2021-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN113104809A | 公開（公告）日： | 2021-07-13 |
| 發明（設計）人： | 賈冉;許士才;劉漢平;劉輝蘭;喬梅;劉國鋒 | 申請（專利權）人： | 德州學院 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00;B82Y40/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219 | 代理人： | 楊樹云 |
| 地址： | 253023 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 利用 圖形 襯底 壓印 制備 石墨 納米 方法 | ||
1.一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，是指：利用圖形化襯底對襯底/Gr進行壓印，并使圖形化襯底的凸起圖案穿透Gr，實現GNM的制備。
2.根據權利要求1所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，所述利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，包括步驟如下：
(1)制備：制備襯底/Gr；
(2)清洗：選取硬度大于所述襯底硬度且具有凸起圖案的圖形化襯底，并對所述圖形化襯底進行清洗；
(3)組裝：根據壓印方式進行壓印前的組裝；
(4)壓印：調整沖壓壓強和沖壓時間，對所述襯底/Gr進行壓印，利用圖形化襯底中凸起圖案將所述Gr穿透；
(5)脫模：壓印完成后，卸載壓力并取出樣品，移除所述圖形化襯底，既得。
3.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，步驟(4)中，調整沖壓壓強為0.5～3MPa，調整沖壓時間為1～10s。
4.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，步驟(4)中，調整沖壓壓強為2MPa，調整沖壓時間為5s。
5.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，步驟(1)，是指：通過金屬有機化學氣相沉積法在襯底上直接生長Gr，或者利用PMMA濕法轉移Gr至襯底上，制備得到所述襯底/Gr。
6.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，步驟(2)，對所述圖形化襯底進行清洗，是指：對所述圖形化襯底依次經過丙酮、乙醇和去離子水各超聲清洗15min后，經N2吹干。
7.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，步驟(4)中，壓印方式包括沖壓、輥壓。
8.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，所述圖形化襯底具備周期性的凸起圖案。
9.根據權利要求2所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，所述凸起圖案為半球體、三棱錐體。
10.根據權利要求2-9任一所述的一種利用圖形化襯底壓印制備GNM的方法，其特征在于，所述Gr的層數為單層或多層；通過濕法刻蝕或干法刻蝕方法制備得到周期性的凸起圖案。
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