[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110373127.8 | 申請日: | 2021-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN113178463B | 公開(公告)日: | 2022-10-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王俊 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 裴磊磊 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
陽極層,包括多個陽極,至少一所述陽極包括基體和位于所述基體上的第一凸起;
位于所述陽極層上的像素定義層,包括多個第一開口,每一所述第一開口暴露對應(yīng)的所述陽極;
絕緣層,包括多個第一絕緣單元,每一所述第一絕緣單元位于對應(yīng)的所述第一凸起上;
發(fā)光層,包括多個發(fā)光單元,每一所述發(fā)光單元位于對應(yīng)的所述陽極的所述基體上并位于對應(yīng)的所述第一開口內(nèi);
所述第一絕緣單元的厚度與所述第一凸起的厚度之和大于或等于所述發(fā)光層的厚度,所述第一絕緣單元上沒有覆蓋所述發(fā)光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述發(fā)光層上的陰極層,所述陰極層的至少一部分位于多個所述第一開口內(nèi);
其中,所述發(fā)光單元包括分別位于所述第一絕緣單元的相對兩側(cè)的兩第一部分,兩所述第一部分均電性連接于對應(yīng)的所述陽極和所述陰極層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述絕緣層還包括多個第二絕緣單元,每一所述第二絕緣單元位于對應(yīng)的所述陽極的所述基體和所述像素定義層之間,每一所述發(fā)光層還包括坡部,所述坡部位于所述第二絕緣單元上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,所述第一絕緣單元、所述第二絕緣單元及所述像素定義層的材料均相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,兩所述第一部分的厚度相同且表面平坦。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述陽極層遠離所述像素定義層一側(cè)的陣列基板,所述陣列基板包括多個薄膜晶體管及連接所述薄膜晶體管的走線,所述第一凸起與至少一所述走線對應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一絕緣單元覆蓋所述第一凸起以及向所述第一開口的邊緣的方向延伸。
8.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一襯底;
在所述襯底上形成包括多個薄膜晶體管及連接所述薄膜晶體管的走線的陣列基板;
在所述陣列基板上形成平坦層;
在所述平坦層上形成包括多個陽極的陽極層,至少一所述陽極包括基體和位于所述基體上的第一凸起;
在所述陽極層上形成像素定義材料層;
將所述像素定義材料層圖案化,形成包括多個第一開口的像素定義層以及多個第一絕緣單元;
在所述第一開口內(nèi)形成發(fā)光層,所述發(fā)光層包括多個發(fā)光單元,每一所述發(fā)光單元位于對應(yīng)的所述陽極的所述基體上并位于對應(yīng)的所述第一開口內(nèi),所述第一絕緣單元的厚度與所述第一凸起的厚度之和大于或等于所述發(fā)光層的厚度,所述第一絕緣單元上沒有覆蓋所述發(fā)光層;
在所述發(fā)光層上形成陰極層,所述陰極層的至少一部分位于多個所述第一開口內(nèi);
其中,每一所述第一絕緣單元位于對應(yīng)的所述第一凸起上,至少一所述走線與一所述第一凸起對應(yīng),所述發(fā)光單元包括分別位于所述第一絕緣單元的相對兩側(cè)的兩第一部分,兩所述第一部分均電性連接于對應(yīng)的所述陽極和所述陰極層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述將所述像素定義材料層圖案化,形成包括多個第一開口的像素定義層以及多個第一絕緣單元的步驟,包括:
利用一半色調(diào)光罩,將所述像素定義材料層圖案化,形成包括多個第一開口的像素定義層以及多個第一絕緣單元;
其中,所述像素定義層還包括圍繞所述第一開口的第一壩體,所述半色調(diào)光罩包括第一透光區(qū)、第二透光區(qū)以及第三透光區(qū),所述第一透光區(qū)對應(yīng)所述第一開口,所述第二透光區(qū)對應(yīng)所述第一絕緣單元,所述第三透光區(qū)對應(yīng)所述像素定義層的第一壩體。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述將所述像素定義材料層圖案化,形成包括多個第一開口的像素定義層以及多個第一絕緣單元的步驟,包括:
利用第一光罩及第二光罩,將所述像素定義材料層圖案化,分別對應(yīng)形成多個第一絕緣單元及包括多個第一開口的像素定義層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110373127.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





