[發明專利]一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器及控制方法有效
| 申請號: | 202110356053.7 | 申請日: | 2021-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN113513605B | 公開(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發明(設計)人: | 胡國慶;田偉 | 申請(專利權)人: | 青島芯笙微納電子科技有限公司 |
| 主分類號: | F16K7/12 | 分類號: | F16K7/12;F16K31/06 |
| 代理公司: | 青島華慧澤專利代理事務所(普通合伙) 37247 | 代理人: | 劉娜 |
| 地址: | 266100 山東省青島市嶗山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 電磁 控制 mems 質量 流量 控制器 方法 | ||
1.一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,包括殼體以及位于殼體內部的質量流量傳感器和膜片,所述殼體包括下基板、上蓋板以及由二者圍成的氣流通道;所述質量流量傳感器設置在下基板上靠近氣流通道的入口一側;所述膜片設置在下基板上靠近氣流通道的出口一側;所述膜片兩端設置于下基板上,所述膜片中部與下基板之間設有振動空隙;所述膜片下表面設置磁性件,所述上蓋板或下基板上與磁性件對應的位置處設置有電磁線圈,所述上蓋板上的電磁線圈與磁性件相互朝向的磁極之極化方向相反,所述下基板上的電磁線圈與磁性件相互朝向的磁極之極化方向相同;
所述質量流量傳感器采用MEMS工藝制作而成,并通過粘接的方法固定在下基板上,所述質量流量傳感器包括:
襯底,設有沿上下向貫通的隔熱腔體;
支撐層,形成于襯底及隔熱腔體上;
加熱元件,形成于支撐層的上表面,且局部位于隔熱腔體的上方;
感溫元件,形成于支撐層的上表面,兩個感溫元件對稱分布在加熱元件的兩側,且局部位于隔熱腔體的上方;
金屬層,形成于支撐層的上表面;
絕緣層,覆蓋加熱元件、感溫元件及金屬層,且絕緣層上通過局部刻蝕形成暴露出部分金屬層的接觸孔。
2.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述膜片的位置低于所述質量流量傳感器的位置,所述上蓋板的內側對應膜片的位置處設有向下的凸起。
3.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述膜片具有延展性,通過粘接或機械夾持的方法固定在下基板上;所述電磁線圈由金屬材料或半導體材料刻蝕而成,其形狀為圓形的螺旋結構或多邊形的螺旋結構;所述磁性件為永磁體。
4.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述襯底為硅襯底、鍺襯底、SOI襯底、GeOI襯底中的一種。
5.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述支撐層、絕緣層的材料為氧化硅、氮化硅的一種或兩種組合。
6.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述加熱元件的材料為P型多晶硅、N型多晶硅、金屬的一種。
7.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述感溫元件為熱敏電阻或熱電堆;其中,熱敏電阻的材料為具有正/負溫度系數的金屬,熱電堆的材料為P型多晶硅/N型多晶硅的組合,或P型多晶硅/金屬的組合,或N型多晶硅/金屬的組合。
8.根據權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,所述金屬層的材料為金屬鈦、鎢、鉻、鉑、鋁、金中的一種或多種組合。
9.一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制方法,采用如權利要求1所述的一種基于電磁控制閥的MEMS質量流量控制器,其特征在于,氣體從氣流通道的入口通入殼體后,經過氣流通道從出口排出,期間經質量流量傳感器測得其質量流量,并反饋給后端處理電路與給定值進行比較,隨后利用該反饋動態調節電磁線圈的通電狀態,控制膜片的形變程度,即控制氣流通道的大小,從而實現對氣體質量流量的精確控制。
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