[發(fā)明專利]被照射的標志組件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110352998.1
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN113823199A
• 公開（公告）日: 2021-12-21
• 發(fā)明（設計）人: 塞爾吉奧·皮爾斯·吉列姆;胡安·蒙萊昂;安東尼奧·埃斯克里巴;羅賓·貝斯特;克里斯托弗·布拉德利;埃米琳·比希斯
• 申請（專利權(quán)）人: SRG利里亞全球有限公司
• 主分類號: G09F13/04
• 分類號: G09F13/04;F21V8/00;F21V19/00;F21V7/00;F21Y115/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 沈智娟

1.一種被照射的標志組件，所述被照射的標志組件包括：

標志主體，所述標志主體包括標志邊緣；

殼體，所述殼體包括腔室，所述腔室?guī)в性谒銮皇业牡谝欢瞬刻幍臍んw孔口；

光源，所述光源定位在所述腔室的第二端部處；

光導，所述光導定位在所述殼體孔口上方，所述光導包括面向所述標志主體的近側(cè)和面向所述光源的遠側(cè)；

殼體側(cè)入射表面，所述殼體側(cè)入射表面設置在所述光導的所述遠側(cè)上，由所述光源產(chǎn)生的光在所述殼體側(cè)入射表面處進入所述光導；

第一出射表面，所述第一出射表面設置在所述光導上，所述第一出射表面由所述近側(cè)的第一近側(cè)邊緣和所述遠側(cè)的第一遠側(cè)邊緣限定；

第二出射表面，所述第二出射表面在所述第一出射表面的對面設置在所述光導上，所述第二出射表面由所述近側(cè)的第二近側(cè)邊緣和所述遠側(cè)的第二遠側(cè)邊緣限定；

反射器側(cè)透射表面，所述反射器側(cè)透射表面設置在所述光導的所述近側(cè)上；和

反射器，所述反射器引導離開所述反射器側(cè)透射表面的光返回穿過所述反射器側(cè)透射表面并且朝向所述第一出射表面和所述第二出射表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，所述被照射的標志組件還包括準直器，所述準直器定位在所述腔室中在所述光源和所述殼體孔口之間，所述準直器使從所述光源所發(fā)射的光線排列整齊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述光導的所述近側(cè)的所述第一近側(cè)邊緣與所述標志邊緣的第一標志邊緣齊平，并且所述光導的所述近側(cè)的所述第二近側(cè)邊緣與所述標志邊緣的第二標志邊緣齊平。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的被照射的標志組件，其中所述光導的所述遠側(cè)的所述第一遠側(cè)邊緣突出超過所述第一標志邊緣，并且所述光導的所述遠側(cè)的所述第二遠側(cè)邊緣突出超過所述第二標志邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述第一出射表面和所述第二出射表面朝向所述標志主體的前部傾斜并且橫向地突出超過所述標志邊緣。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述第一出射表面和所述第二出射表面平行。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述光導由非漫射材料制成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述反射器朝向所述第一出射表面分出約50％的離開所述反射器側(cè)透射表面的光并朝向所述第二出射表面分出約50％的離開所述反射器側(cè)透射表面的光。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述反射器與所述標志主體的內(nèi)表面耦接。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的被照射的標志組件，其中所述反射器使用粘合劑與所述標志主體的所述內(nèi)表面上的突起耦接。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的被照射的標志組件，其中所述標志主體與所述光導耦接。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述第一出射表面的至少一部分和所述第二出射表面的至少一部分為紋理化的。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述殼體側(cè)入射表面的至少一部分為紋理化的。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述反射器側(cè)透射表面的至少一部分為紋理化的。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述殼體的內(nèi)表面的至少一部分為紋理化的。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的被照射的標志組件，其中所述光導的所述近側(cè)形成為所述反射器的形狀，并且所述反射器包括施加到所述光導的近側(cè)的反射涂層。