[發(fā)明專利]制造顯示裝置的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110347089.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113540384A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樸成均;洪正武;金度延;全相炫;金睿主 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/56 | 分類號(hào): | H01L51/56;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 王學(xué)強(qiáng);韓芳 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 顯示裝置 方法 | ||
公開(kāi)了一種制造顯示裝置的方法。所述方法包括:在包括第一封裝區(qū)域和與第一封裝區(qū)域相鄰的第二封裝區(qū)域的封裝層上形成介電層;在介電層上形成導(dǎo)電層;在與第一封裝區(qū)域和第二封裝區(qū)域中的每個(gè)疊置的導(dǎo)電層上形成第一光致抗蝕劑層;在與第二封裝區(qū)域疊置的第一光致抗蝕劑層上形成第二光致抗蝕劑層;以及基于第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層刻蝕導(dǎo)電層。當(dāng)在包括封裝層的顯示面板的厚度方向上觀看時(shí),封裝層的與第二封裝區(qū)域疊置的至少一部分具有比封裝層的與第一封裝區(qū)域疊置的部分的厚度大的厚度。
本申請(qǐng)要求于2020年4月13日提交的第10-2020-0044863號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益,出于所有目的,通過(guò)引用將上述申請(qǐng)包含于此,如在此充分地闡述一樣。
技術(shù)領(lǐng)域
發(fā)明的示例性實(shí)施例/實(shí)施方式涉及一種顯示裝置,更具體地,涉及一種制造顯示裝置的方法。
背景技術(shù)
已經(jīng)開(kāi)發(fā)了用于諸如電視、移動(dòng)電話、平板計(jì)算機(jī)、導(dǎo)航系統(tǒng)和游戲控制臺(tái)的多媒體裝置的各種顯示裝置。這樣的顯示裝置可以包括顯示圖像并檢測(cè)外部輸入的顯示模塊、設(shè)置在顯示面板上的偏振層和窗。顯示模塊可以包括顯示圖像的顯示面板和檢測(cè)外部輸入的輸入感測(cè)層。
從顯示面板輸出的圖像可以通過(guò)窗可見(jiàn)。輸入感測(cè)層可以檢測(cè)基本上接近窗的外部輸入。
在本背景部分中公開(kāi)的上述信息僅用于理解發(fā)明構(gòu)思的背景,因此,其可以包含不構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)的信息。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式/實(shí)施例的方法能夠提供一種制造具有提高了外部輸入的可檢測(cè)性的顯示裝置的方法。
將在以下的描述中闡述發(fā)明構(gòu)思另外的特征,部分地,這些另外的特征將通過(guò)描述變得明顯,或者可以通過(guò)實(shí)踐發(fā)明構(gòu)思而獲得。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,一種制造顯示裝置的方法可以包括以下步驟:在顯示面板的封裝層上形成介電層,封裝層包括第一封裝區(qū)域和與第一封裝區(qū)域相鄰的第二封裝區(qū)域;在介電層上形成導(dǎo)電層;在與第一封裝區(qū)域和第二封裝區(qū)域中的每個(gè)疊置的導(dǎo)電層上形成第一光致抗蝕劑層;在與第二封裝區(qū)域疊置的第一光致抗蝕劑層上形成第二光致抗蝕劑層;以及基于第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層刻蝕導(dǎo)電層。當(dāng)在顯示面板的厚度方向上觀看時(shí),封裝層的與第二封裝區(qū)域疊置的至少一部分可以具有比封裝層的與第一封裝區(qū)域疊置的部分的厚度大的厚度。
在一些實(shí)施例中,可以通過(guò)在與第二封裝區(qū)域疊置的第一光致抗蝕劑層上涂覆一次或更多次光敏溶液來(lái)形成第二光致抗蝕劑層。
在一些實(shí)施例中,所述方法可以還包括:使用掩模來(lái)使第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層曝光;以及使曝光的第一光致抗蝕劑層和曝光的第二光致抗蝕劑層顯影。可以刻蝕導(dǎo)電層,以形成與第一封裝區(qū)域疊置的第一導(dǎo)電圖案和與第二封裝區(qū)域疊置的第二導(dǎo)電圖案。
在一些實(shí)施例中,第二導(dǎo)電圖案的至少一部分可以具有比第一導(dǎo)電圖案的線寬大的線寬。與第二封裝區(qū)域的至少一部分疊置的第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層的厚度之和可以比與第一封裝區(qū)域疊置的第一光致抗蝕劑層的厚度大。
在一些實(shí)施例中,第二導(dǎo)電圖案可以包括:第一部分,具有第一線寬;以及第二部分,具有比第一線寬大的第二線寬。與第二部分疊置的第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層的厚度之和可以比與第一部分疊置的第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層的厚度之和大。
在一些實(shí)施例中,第一部分可以比第二部分靠近第一導(dǎo)電圖案。
在一些實(shí)施例中,顯示面板可以限定顯示區(qū)域和與顯示區(qū)域相鄰的外圍區(qū)域。可以將封裝層形成為與顯示區(qū)域疊置。
在一些實(shí)施例中,當(dāng)在平面中觀看時(shí),第二封裝區(qū)域可以比第一封裝區(qū)域靠近外圍區(qū)域。
在一些實(shí)施例中,第一封裝區(qū)域可以具有比第二封裝區(qū)域的平面面積大的平面面積。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三星顯示有限公司,未經(jīng)三星顯示有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110347089.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





