[發(fā)明專利]基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置及使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110344474.8
• 申請日: 2021-03-31
• 公開（公告）號: CN112735992B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 錢誠;李剛;童建
• 申請（專利權(quán)）人: 亞電科技南京有限公司;江蘇亞電科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687;B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京商專潤文專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11317
• 代理人: 陳平

1.基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置，其特征在于：包括工作臺（1）和安裝在工作臺（1）上的清洗機構(gòu)（2）和晶圓夾持件（3）；

所述清洗機構(gòu)（2）內(nèi)至少包括支撐臂（201），所述支撐臂（201）側(cè)壁靠近頂部的位置固定連接有安裝座（2011），所述安裝座（2011）上下兩端表面上均開設(shè)有固定槽（2012），所述安裝座（2011）側(cè)壁表面開設(shè)有與所述固定槽（2012）連通的限位螺孔（2013），兩個所述固定槽（2012）內(nèi)均固定安裝有清洗臂（202），所述清洗臂（202）上表面開設(shè)有與下表面貫穿的開槽（2021），所述開槽（2021）內(nèi)壁兩側(cè)開設(shè)有限位滑槽（2022），所述開槽（2021）內(nèi)通過限位滑槽（2022）卡接安裝有沖洗件（203），所述清洗臂（202）一端側(cè)壁表面固定安裝有清洗件（204），所述清洗臂（202）一端固定連接有旋轉(zhuǎn)基座（2023），所述旋轉(zhuǎn)基座（2023）上表面開設(shè)有高度調(diào)節(jié)孔（20231），所述高度調(diào)節(jié)孔（20231）內(nèi)卡接安裝有固定桿（205）；

所述晶圓夾持件（3）內(nèi)至少包括固定環(huán)（301），所述固定環(huán)（301）側(cè)壁兩側(cè)對稱設(shè)置有承重臂（3012），所述固定環(huán)（301）側(cè)壁一端固定連接有齒輪安裝座（3011），所述齒輪安裝座（3011）下表面固定安裝有電機（3013），所述固定環(huán)（301）內(nèi)側(cè)壁表面開設(shè)有旋轉(zhuǎn)槽（3014），所述旋轉(zhuǎn)槽（3014）內(nèi)壁上表面開設(shè)有嵌套槽（3015），所述旋轉(zhuǎn)槽（3014）內(nèi)嵌套安裝有夾持環(huán)（302），所述夾持環(huán)（302）內(nèi)側(cè)壁兩端對稱安裝有用于夾持晶圓的夾持弧板（3022）；

所述固定桿（205）底端固定連接有嵌套桿（2051），所述嵌套桿（2051）與所述固定桿（205）之間開設(shè)有銜接槽（2055），所述固定桿（205）側(cè)壁對稱設(shè)置有限位卡塊（2052），所述固定桿（205）頂部螺紋連接有壓緊螺帽（2053）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置，其特征在于：所述沖洗件（203）內(nèi)至少包括水槽（2031），所述水槽（2031）一端固定連通有導(dǎo)水軟管（2033），所述水槽（2031）下表面固定安裝有若干沖洗噴嘴（2032），所述水槽（2031）側(cè)壁兩側(cè)對稱設(shè)置有限位滑塊（20311），所述水槽（2031）通過所述限位滑塊（20311）與所述限位滑槽（2022）滑動連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)基座（2023）下表面開設(shè)有與所述高度調(diào)節(jié)孔（20231）連通的彈簧孔（20232），所述彈簧孔（20232）內(nèi)固定安裝有第一彈簧（2054），所述第一彈簧（2054）頂端與所述彈簧孔（20232）上表面固定連接，所述第一彈簧（2054）下表面與所述安裝座（2011）上表面固定連接，所述彈簧孔（20232）孔徑大于所述高度調(diào)節(jié)孔（20231），所述第一彈簧（2054）嵌套在所述固定桿（205）外側(cè)壁，所述高度調(diào)節(jié)孔（20231）側(cè)壁對稱開設(shè)有限位卡槽（2024），所述限位卡塊（2052）與所述限位卡槽（2024）卡接固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置，其特征在于：所述清洗件（204）內(nèi)至少包括導(dǎo)氣管（2041），所述導(dǎo)氣管（2041）底部固定安裝有清洗噴嘴（2042），所述清洗噴嘴（2042）通過固定座（2043）與所述清洗臂（202）側(cè)壁固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于惰性氣體的防水痕半導(dǎo)體晶圓清洗裝置，其特征在于：所述夾持環(huán)（302）沿外壁邊緣設(shè)置有齒牙（3021），所述夾持環(huán)（302）上表面靠近外壁邊緣處固定連接有上沿壁（3023），所述夾持環(huán)（302）內(nèi)側(cè)壁表面開設(shè)有調(diào)節(jié)槽（3024），所述調(diào)節(jié)槽（3024）內(nèi)靠近邊緣處固定安裝有限位擋板（30241），所述限位擋板（30241）上嵌套安裝有支撐桿（3025），所述支撐桿（3025）一端與所述夾持弧板（3022）固定連接，所述支撐桿（3025）另一端固定連接有下鍥塊（30252），所述下鍥塊（30252）斜邊上貼合有頂緊件（3026），所述下鍥塊（30252）與所述限位擋板（30241）之間嵌套連接有第二彈簧（30251），所述夾持環(huán)（302）下表面靠近外壁邊緣處開設(shè)有第二凹槽（3027）。