[發明專利]一種饋電線陣與雷達天線在審
| 申請號: | 202110337223.7 | 申請日: | 2021-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN112803159A | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發明(設計)人: | 崔靈菲;陳智慧;郭凡玉;羅烜;朱蕾 | 申請(專利權)人: | 成都天銳星通科技有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/50 | 分類號: | H01Q1/50;H01Q1/38;H01Q1/32 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 榮穎佳 |
| 地址: | 610002 四川省成都市高新區中國(四川)*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 饋電 雷達 天線 | ||
1.一種饋電線陣,其特征在于,所述饋電線陣包括第一金屬層、第二金屬層、第三金屬層、第一介質層、第二介質層以及多個天線單元,第一金屬層、第一介質層、第二金屬層、第二介質層以及第三金屬層逐層連接,所述多個天線單元均與所述第一金屬層連接;其中,
所述多個天線單元串聯,且所述第一介質層、所述第二介質層以及所述第二金屬層設置有多個開槽,每個所述開槽均與一個所述天線單元的位置相對,且形狀相同。
2.如權利要求1所述的饋電線陣,其特征在于,所述多個天線單元的大小由中間向兩側逐漸變小。
3.如權利要求1所述的饋電線陣,其特征在于,所述第三金屬層接地,所述第一金屬層、所述第二金屬層、所述第三金屬層、所述第一介質層、所述第二介質層還設置有隔離金屬孔。
4.如權利要求3所述的饋電線陣,其特征在于,所述隔離金屬孔環繞于所以多個天線單元外。
5.如權利要求3所述的饋電線陣,其特征在于,每個所述隔離金屬孔的半徑設置為5mil。
6.如權利要求1所述的饋電線陣,其特征在于,每兩個天線單元之間的間距相同,且每兩個天線單元之間的間距滿足公式:
其中,λ表示空間波長、λ0表示不出現柵瓣的最大間距。
7.如權利要求6所述的饋電線陣,其特征在于,每兩個天線單元之間的間距滿足公式:
其中,λg表示介質波長、表示介質的相對介電常數。
8.如權利要求1所述的饋電線陣,其特征在于,每個所述天線單元的電流分布情況滿足公式:
其中,,且
其中,Zn表示天線單元位置,In與I(Zn)表示在Zn位置的天線單元的電流,N表示天線單元的總數,A表示天線單元的主瓣電平與副瓣電平之間的比值,n表示1~N之間的任意數,表示改變的零點的個數,其為預設的固定值,且零點指基本函數sin(πμ)/(πμ)的零點,其中,μ為任意數,d表示相鄰兩個天線單元之間的間距。
9.如權利要求1所述的饋電線陣,其特征在于,所述天線單元的數量為12個。
10.一種雷達天線,其特征在于,所述雷達天線包括如權利要求1-9任意一項所述的饋電線陣。
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