[發明專利]一種減弱篦齒盤前方耗散渦的引氣布局有效
| 申請號: | 202110323485.8 | 申請日: | 2021-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN113123879B | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發明(設計)人: | 邱天;丁水汀;鄧長春;王承昊;趙煜;袁奇雨;劉傳凱;劉曉靜 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | F02C7/18 | 分類號: | F02C7/18 |
| 代理公司: | 北京航智知識產權代理事務所(普通合伙) 11668 | 代理人: | 黃川;史繼穎 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 減弱 篦齒盤 前方 耗散 布局 | ||
1.一種減弱篦齒盤前方耗散渦的引氣布局,其特征在于:
在與篦齒盤相對的靜子鼓筒面上,距離篦齒盤中位于氣流上游的第一道齒8mm~10mm范圍內,沿所述靜子鼓筒面的周向設有一圈凸臺,在所述凸臺上設有多個預旋噴嘴,作為引氣入口;
所述引氣入口以空間角度進行預旋送氣,所述引氣入口的空間角度為靜子鼓筒面法線以靜子鼓筒面母線為轉軸順時針旋轉α,再以靜子鼓筒面法線為轉軸逆時針旋轉β得到;其中,75°≤α≤85°,30°≤β≤60°;
引氣入口引入的氣流與徑向內流的氣流摻混后,繼續向下游流動,對篦齒盤前方的耗散渦結構進行沖擊,減弱甚至破壞耗散渦。
2.如權利要求1所述的減弱篦齒盤前方耗散渦的引氣布局,其特征在于,所述引氣入口的孔徑范圍為1mm~2mm。
3.如權利要求1所述的減弱篦齒盤前方耗散渦的引氣布局,其特征在于,所述引氣入口包含的各預旋噴嘴的孔徑相同。
4.如權利要求1所述的減弱篦齒盤前方耗散渦的引氣布局,其特征在于,所述引氣入口包含的預旋噴嘴的數量為8個~60個。
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