[發(fā)明專利]一種液體噴射流道有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110318515.6 | 申請日： | 2021-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN113059914B | 公開（公告）日： | 2022-07-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陸安江;張孝宇 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州印科杰特半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號： | B41J2/14 | 分類號： | B41J2/14 |
| 代理公司： | 成都明濤智創(chuàng)專利代理有限公司 51289 | 代理人： | 冷亞君 |
| 地址： | 215600 江蘇省蘇州市張家港市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 液體 噴射 | ||
1.一種液體噴射流道，包括基底層(1)、腔壁層(2)和噴孔層(3)，所述基底層(1)中部設(shè)置進(jìn)墨通道，所述腔壁層(2)設(shè)置有壓力腔，所述噴孔層(3)設(shè)置噴孔，所述基底層(1)上依次設(shè)置腔壁層(2)和噴孔層(3)，所述壓力腔分別與進(jìn)墨通道和噴孔連通，其特征在于：所述進(jìn)墨通道橫截面為曲線型，其包括基底矩形部(11)、基底延伸部a(12)和基底延伸部b(13)，所述基底矩形部(11)寬度方向兩側(cè)分別設(shè)置多個基底延伸部a(12)，所述基底矩形部(11)長度方向的兩端分別設(shè)置一個基底延伸部b(13)，所述基底矩形部(11)寬度方向每一側(cè)設(shè)置的多個基底延伸部a(12)兩兩之間距離相等，并且兩兩之間通過圓弧連接，所述基底矩形部(11)寬度方向兩側(cè)設(shè)置的基底延伸部a(12)交錯設(shè)置，所述基底延伸部b(13)分別設(shè)置于基底矩形部(11)長度方向的兩端的不同側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液體噴射流道，其特征在于：所述基底延伸部a(12)為喇叭型，所述基底延伸部b(13)為直角梯形，并且所述基底延伸部b(13)的斜邊設(shè)置成弧邊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種液體噴射流道，其特征在于：所述壓力腔橫截面為曲線型，包括腔壁矩形部(21)和腔壁延伸部a(22)，所述腔壁矩形部(21)寬度方向兩側(cè)分別交錯陣列設(shè)置多個腔壁延伸部a(22)，每一側(cè)的腔壁延伸部a(22)兩兩之間圓弧連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種液體噴射流道，其特征在于：所述腔壁延伸部a(22)設(shè)置為C型，所述腔壁矩形部(21)面積大于基底矩形部(11)面積，所述壓力腔橫截面面積大于進(jìn)墨通道橫截面面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種液體噴射流道，其特征在于：所述腔壁延伸部a(22)與所述腔壁矩形部(21)連接處圓弧過渡。
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