[發(fā)明專利]一種耐刮擦的抗反射膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110318017.1 | 申請日: | 2021-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN113201162B | 公開(公告)日: | 2022-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄒清清;董紅星;劉楷楷 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波惠之星新材料科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C08J7/046 | 分類號: | C08J7/046;C08J7/04;C09D175/14;C09D167/06;C09D163/10;C09D7/61 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 王思楠 |
| 地址: | 315020 浙江省寧*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 耐刮擦 反射 | ||
1.一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于通過先將硬化層涂液涂布于基材上,經(jīng)過60℃~80℃加熱固化至表干形成硬化層,然后在所述的硬化層上涂布抗反射層涂液,依次經(jīng)過80℃~150℃加熱固化至少1min和UV固化形成抗反射層而得到,其中UV固化能量為600mJ/cm2以上,所述的硬化層的材料組分按重量份數(shù)計為:100份雙重固化樹脂、1~10份光引發(fā)劑、1~10份異氰酸酯、5~40份封閉型異氰酸酯、100~850份溶劑和0.5~10份其它助劑;所述的抗反射層的材料組分按重量份數(shù)計為:100份光固化樹脂、10~80份空心納米二氧化硅顆粒、4000~10000份溶劑和1份~10份其它助劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的雙重固化樹脂為含有羥基的丙烯酸樹脂,且羥值為20~200mgKOH/g,優(yōu)選40~150mgKOH/g。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的雙重固化樹脂為聚氨酯丙烯酸樹脂、聚酯丙烯酸樹脂和環(huán)氧丙烯酸樹脂中的一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的封閉型異氰酸酯適用于光固化體系,能溶于有機(jī)溶劑,其NCO當(dāng)量重優(yōu)選≥200,開環(huán)溫度為80℃~150℃,優(yōu)選90℃~100℃。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的光固化樹脂為官能團(tuán)在3以上、脂肪族和特殊改性的耐磨性優(yōu)異的丙烯酸樹脂,包含脂肪族聚氨酯丙烯酸樹脂、脂肪族聚酯丙烯酸樹脂、環(huán)氧丙烯酸樹脂、改性雙酚A環(huán)氧丙烯酸樹脂、氟改性聚氨酯丙烯酸樹脂中的一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的空心納米二氧化硅顆粒表面帶有羥基,且每nm2表面帶有的羥基數(shù)量大于等于5個,所述的空心納米二氧化硅顆粒的粒徑為10nm-100nm,優(yōu)選10nm-30nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的溶劑為異丙醇、丙酮、甲基異丁基甲酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇單丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的任意一種或幾種的混合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的硬化層的厚度為2~50μm,優(yōu)選3~10μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的抗反射層的厚度為90nm~110nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐刮擦的抗反射膜,其特征在于所述的抗反射膜的耐鋼絲絨1500次/1kg,層間附著力水煮兩小時百格5B,360nm-740nm平均反射率小于等于2%,550nm處的反射率可低至1.4%,CIE Lab顏色模型中的b值為-3~+3范圍內(nèi)。
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