[發明專利]一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置及方法

有效

• 申請號: 202110316884.1
• 申請日: 2021-03-23
• 公開（公告）號: CN113071790B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發明（設計）人: 李玉陽;來懿清;陳冰開;張祎;楊曉媛
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: B65D25/02
• 分類號: B65D25/02;B01F31/80;B01F33/45;B01F33/80;B65D43/02;B82Y35/00;B82Y40/00;G01N21/84
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 吳文濱

1.一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，該裝置包括用于原位制備納米流體并儲存納米流體的容器(7)、與容器(7)相適配的納米顆粒分散機構以及與容器(7)相適配的背光表征系統，所述的納米顆粒分散機構包括超聲振動組件及磁力攪拌組件；

在原位制備時，將基液及納米顆粒加入至容器(7)中，之后利用超聲振動組件進行分散，得到納米流體；

在表征時，啟動背光表征系統，利用容器(7)內不同濃度納米粒子對光的散射或吸收程度不同實現納米流體的穩定性表征；

在儲存時，利用磁力攪拌組件對容器(7)中的納米流體進行分散，防止團聚現象。

2.根據權利要求1所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，該裝置還包括與容器(7)相適配的容器蓋。

3.根據權利要求1所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的容器(7)為長方體容器，該長方體容器位于背光表征系統的光路中，并且所述的長方體容器的長度方向與光路相垂直，寬度方向與光路相平行。

4.根據權利要求1所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的超聲振動組件包括與容器(7)的內部相適配的超聲振動器(3)。

5.根據權利要求4所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的超聲振動組件還包括與超聲振動器(3)相適配的調節支架(4)，所述的超聲振動器(3)設置在調節支架(4)上。

6.根據權利要求1所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的磁力攪拌組件包括磁力攪拌平臺(5)以及與磁力攪拌平臺(5)相適配的磁力轉子(6)，所述的容器(7)設置在磁力攪拌平臺(5)上，所述的磁力轉子(6)設置在容器(7)的內部。

7.根據權利要求1所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的背光表征系統包括分別設置在容器(7)兩側的光源(1)、相機(8)，所述的光源(1)發出的光穿過容器(7)后到達相機(8)的拍攝區域。

8.根據權利要求7所述的一種納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的裝置，其特征在于，所述的背光表征系統還包括光源分散板(2)，該光源分散板(2)位于光源(1)與容器(7)之間。

9.一種基于如權利要求1至8任一項所述裝置的納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的方法，其特征在于，該方法為：

在原位制備時，將基液及納米顆粒加入至容器(7)中，之后利用超聲振動組件進行分散，得到納米流體；

在表征時，啟動背光表征系統，利用容器(7)內不同濃度納米粒子對光的散射或吸收程度不同實現納米流體的穩定性表征；

在儲存時，利用磁力攪拌組件對容器(7)中的納米流體進行分散，防止團聚現象。

10.根據權利要求9所述的一種基于所述裝置的納米流體原位制備、表征及防團聚儲存的方法，其特征在于，在原位制備時，利用磁力攪拌組件進行輔助分散。