[發(fā)明專利]一種用于光纖激光窗口保護片表面處理的混酸及處理方法

在審

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• 申請日: 2021-03-24
• 公開（公告）號: CN112939475A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設計）人: 王欣;吳駿軍;吳海平;吳嘉琪;皮耕尉
• 申請（專利權）人: 宜山光電科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 深圳紫晴專利代理事務所(普通合伙) 44646
• 代理人: 胡鳳林

一種用于光纖激光窗口保護片表面處理的混酸及處理方法，所述混酸包括一號混酸和二號混酸，所述一號混酸和所述二號混酸均由強酸、絡合劑和純水構(gòu)成，所述一號混酸由所述強酸、所述絡合劑和所述純水按照摩爾比4:1:10～4:1:40構(gòu)成；所述二號混酸由所述強酸、所述絡合劑和所述純水按照摩爾比4:1:50～4:1:100構(gòu)成。本發(fā)明所采用的混酸由強酸、絡合劑和純水按照一定比例構(gòu)成。該混酸中的強酸在表面處理過程中能有效去除光纖激光窗口保護片的微裂紋和雜質(zhì)粒子，同時由于絡合劑的存在使得表面反應均勻平穩(wěn)，同時能最大限度去除雜質(zhì)和缺陷，從而降低保護片對激光的吸收以及微裂紋尖端的光場聚集，從而提高光纖激光窗口保護片的損傷閾值。

技術領域

本發(fā)明涉及光纖激光窗口保護片，特別是一種用于光纖激光保護窗口保護片表面處理的混酸及處理方法。

背景技術

隨著光纖激光技術的成熟，激光加工技術也開始進入到一個飛速發(fā)展的時期，已經(jīng)成為全球的一個高新技術產(chǎn)業(yè)。伴隨著技術的不斷發(fā)展，光纖激光加工系統(tǒng)的輸出功率不斷提升，對光纖激光窗口保護片的性能提出了更高要求。傳統(tǒng)加工方式得到的光纖激光窗口保護片內(nèi)包含拋光層雜質(zhì)、內(nèi)鑲嵌污染物、亞表面缺陷等。這些缺陷和雜質(zhì)的存在會導致光纖激光窗口保護片的損傷閾值。當前解決該問題主要有兩個途徑，第一個是不斷提升拋光技術，減少亞表面缺陷和雜質(zhì)的數(shù)量；第二個是采用后處理方式去除或降低雜質(zhì)和缺陷的影響。由于提升拋光技術需要投入大量的儀器設備，同時延長拋光時間，勢必會大大增加加工成本。因此拋光后的處理技術是一種有效去除光纖激光窗口保護片中雜質(zhì)和缺陷，提升其損傷閾值的有效手段。

目前，光纖激光窗口保護片多采用氫氟酸或者氫氟酸結(jié)合NH₄F對光纖激光窗口保護片進行酸處理，但這種方法存在一系列問題：若酸濃度過高則腐蝕嚴重，反而效果不好，酸濃度過低則腐蝕所需時間過長，同時腐蝕過程中反應生成物六氟硅酸鹽容易沉淀，致使光纖激光窗口保護片面型遭到破壞且大幅降低其激光損傷閾值

所以，針對現(xiàn)有技術存在的不足，有必要設計一種用于光纖激光窗口保護片表面處理的混酸及處理方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

為克服上述現(xiàn)有技術中的不足，本發(fā)明目的在于提供一種用于光纖激光窗口保護片表面處理的混酸及處理方法，該混酸和處理方法能有效去除光纖激光窗口保護片表面的微裂紋以及雜質(zhì)離子，從而提高光纖激光窗口保護片的損傷閾值。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的，本發(fā)明提供的技術方案是：一種用于光纖激光窗口保護片表面處理的混酸，所述混酸包括一號混酸和二號混酸，所述一號混酸和所述二號混酸均由強酸、絡合劑和純水構(gòu)成，所述一號混酸由所述強酸、所述絡合劑和所述純水按照摩爾比4:1:10～4:1:40構(gòu)成；所述二號混酸由所述強酸、所述絡合劑和所述純水按照摩爾比4:1:50～4:1:100構(gòu)成：

所述強酸摩爾百分比組成為：

HF15～60mol％

HCl 0～10mol％

HNO₃ 5～20mol％

HClO₄ 5～40mol％

H₂SO₄ 5～15mol％

所述絡合劑的摩爾百分比組成為：

EDTA 10～70mol％

NaPO₃5～15mol％

H₂C₂O₄10～35mol％

NH₄F 0～35mol％。

一種光纖激光窗口保護片的表面處理方法，包括以下步驟：