[發明專利]一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材及其制備方法

在審

• 申請號: 202110303305.X
• 申請日: 2021-03-22
• 公開（公告）號: CN115113312A
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發明（設計）人: 葉建忠;羅武軍
• 申請（專利權）人: 廣東僑盛新材料科技有限公司
• 主分類號: G02B5/12
• 分類號: G02B5/12;G03F7/00;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/24;C23C14/30;C23C14/35
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 趙超群

1.一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：包括層疊設置的透明基材層和磁性光學變色層，所述磁性光學變色層為多層干涉鍍膜層，所述磁性光學變色層包括依次復合的第一吸收層、第一介質層、反射層、磁性定位圖案層和第二介質層，所述第二介質層遠離所述透明基材層設置。

2.根據權利要求1所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述磁性光學變色層還包括第三介質層，所述第三介質層復合于所述第一吸收層遠離所述第一介質層的一面。

3.根據權利要求2所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述第一介質層、第二介質層和第三介質層均為氧化物和/或氟化物；所述第一介質層的厚度、第二介質層的厚度和第三介質層的厚度均為2-900nm。

4.根據權利要求2所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述磁性光學變色層還包括第二吸收層，所述第二吸收層復合于所述第三介質層遠離所述第一吸收層的一面。

5.根據權利要求4所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述第一吸收層和第二吸收層均為金屬單質和/或金屬合金；所述第一吸收層的厚度和第二吸收層的厚度均為2-900nm。

6.根據權利要求1所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述反射層為金屬單質和/或金屬合金；所述反射層的厚度為2-900nm。

7.根據權利要求1所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述磁性定位圖案層為矯頑力大于500KA/m、剩磁大于10T的磁性材料；所述磁性定位圖案層的厚度為2-900nm。

8.根據權利要求1所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材，其特征在于：所述磁性定位圖案光學變色裝飾片材還包括復合于所述透明基材層和磁性光學變色層之間的納米壓印層。

9.一種如權利要求1-8任意一項所述的磁性定位圖案光學變色裝飾片材的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(S1)、在透明基材的背面粘貼帶有磁性定位圖案的磁版；

(S2)、在透明基材的正面以金屬單質和/或金屬合金為原料，通過真空蒸鍍、磁控濺射或電子束蒸鍍的方法獲得第一吸收層；

(S3)、在第一吸收層的表面以氧化物和/或氟化物為原料，通過真空蒸鍍、磁控濺射或電子束蒸鍍的方法獲得第一介質層；

(S4)、在第一吸收層的表面以金屬單質和/或金屬合金為原料，通過真空蒸鍍、磁控濺射或電子束蒸鍍的方法獲得反射層；

(S5)、在反射層的表面以矯頑力大于500KA/m、剩磁大于10T的磁性材料為原料，通過真空蒸鍍、磁控濺射或電子束蒸鍍的方法獲得磁性定位圖案層；

(S6)、在磁性定位圖案層的表面以氧化物和/或氟化物為原料，通過真空蒸鍍、磁控濺射或電子束蒸鍍的方法獲得第二介質層，即得所述磁性定位圖案光學變色裝飾片材。

10.根據權利要求9所述的一種磁性定位圖案光學變色裝飾片材的制備方法，其特征在于：所述磁性定位圖案光學變色裝飾片材的制備方法在粘貼磁版之前，還包括：在透明基材的正面以光刻膠輔助，通過全息模壓機將模板上的微納結構轉移到光刻膠上形成光學衍射全息圖案，獲得納米壓印層。