[發明專利]一種基于TiB晶須的鈦或鈦合金的梯度滲層及其制備方法有效
| 申請號: | 202110293937.2 | 申請日: | 2021-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN113046683B | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發明(設計)人: | 段永華;盧耀平;王昕宇;吳影;王勇;曲德藝 | 申請(專利權)人: | 昆明理工大學 |
| 主分類號: | C23C8/68 | 分類號: | C23C8/68;C23C10/48;C23C8/02 |
| 代理公司: | 天津煜博知識產權代理事務所(普通合伙) 12246 | 代理人: | 朱維 |
| 地址: | 650093 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 tib 鈦合金 梯度 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于TiB晶須的鈦或鈦合金的梯度滲層,其特征在于:梯度滲層從表面至基體依次包括TiB2外層、TiB晶須-TiAl3次外層、TiAl3層和擴散層,梯度滲層的厚度不小于100μm,表面硬度不小于2200HV,表面層與基體層的硬度差不大于500HV。
2.權利要求1所述基于TiB晶須的鈦或鈦合金的梯度滲層的制備方法,其特征在于,具體步驟如下:
(1)在鈦或鈦合金基體中制備TiB晶須;
(2)基于TiB晶須進行滲鋁,依次生成TiB晶須-TiAl3次外層、TiAl3層和擴散層;
(3)表面滲硼生成TiB2外層。
3.根據權利要求2所述基于TiB晶須的鈦或鈦合金的梯度滲層的制備方法,其特征在于:TiB晶須長度為40~60μm,TiB晶須-TiAl3次外層厚度為40~60μm,TiAl3層厚度為30~50μm,擴散層厚度為5~10μm,TiB2外層厚度為5~20μm。
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