[發明專利]一種基于PMMA/PC的高性能偏光片在審
| 申請號： | 202110266692.4 | 申請日： | 2021-03-10 |
| 公開（公告）號： | CN113093323A | 公開（公告）日： | 2021-07-09 |
| 發明（設計）人： | 竹文坤;何嶸;刁銳敏;羅林;陳濤;李宸;王茜 | 申請（專利權）人： | 西南科技大學 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B1/04;G02B1/14;G02B1/18;G02B1/11 |
| 代理公司： | 成都環泰專利代理事務所(特殊普通合伙) 51242 | 代理人： | 李斌;李輝 |
| 地址： | 621000 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 pmma pc 性能 偏光 | ||
1.一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，該偏光片由基膜和依次堆疊在基膜一側的保護層、霧度調節層、透光電極層和功能層組成，其中，基膜包括以下原料：PMMA樹脂、PC樹脂、聚苯乙烯、PVC樹脂、1-羥基環己基苯基甲酮、增韌劑、分散劑和流平劑。
2.根據權利要求1所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，基膜中各原料的重量份數如下：PMMA樹脂100份-120份、PC樹脂80份-100份、聚苯乙烯5份-10份、PVC樹脂10份-20份、1-羥基環己基苯基甲酮1份-1.2份、、增韌劑0.5份-0.8份、分散劑0.1份-0.3份和流平劑0.1份-0.3份。
3.根據權利要求2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，基膜中各原料的重量份數如下：PMMA樹脂100份、PC樹脂80份、聚苯乙烯5份、PVC樹脂10份、1-羥基環己基苯基甲酮1份、增韌劑0.5份、分散劑0.1份和流平劑0.1份。
4.根據權利要求2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，基膜中各原料的重量份數如下：PMMA樹脂120份、PC樹脂100份、聚苯乙烯10份、PVC樹脂20份、1-羥基環己基苯基甲酮1.2份、增韌劑0.8份、分散劑0.3份和流平劑0.3份。
5.根據權利要求2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，基膜中各原料的重量份數如下：PMMA樹脂110份、PC樹脂90份、聚苯乙烯8份、PVC樹脂15份、1-羥基環己基苯基甲酮1.2份、增韌劑0.6份、分散劑0.2份和流平劑0.2份。
6.根據權利要求1或2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，所述保護層為三醋酸纖維素酯。
7.根據權利要求1或2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，所述霧度調節層為聚合物分散液晶膜。
8.根據權利要求1或2所述的一種基于PMMA/PC的高性能偏光片，其特征在于，所述功能層為防指紋功能層、低反射功能層、防炫目功能層和防污染功能層中的一種或幾種。
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