[發明專利]使光刻線條變窄的方法及光刻機有效
| 申請號： | 202110253880.3 | 申請日： | 2021-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN112882355B | 公開（公告）日： | 2023-05-23 |
| 發明（設計）人： | 李榮寶 | 申請（專利權）人： | 上海大溥實業有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海三方專利事務所(普通合伙) 31127 | 代理人： | 吳瑋;徐成澤 |
| 地址： | 201607 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 線條 方法 | ||
1.一種使光刻線條變窄的方法，其特征在于進行至少兩次曝光，關于使光刻線條變窄的方法，具體包括如下步驟：
S1.進行首次曝光；
S2.移動掩膜版；
S3.進行再次曝光；
其中，兩次曝光的重疊非曝光部分形成光刻部；
或S1.進行首次曝光，曝光程度為所需曝光程度的一半；
S2.移動掩膜版；
S3.進行再次曝光，曝光程度為所需曝光程度的一半；
其中，兩次曝光的重疊曝光部分形成光刻部；
還包括一種實現S2中掩膜版位移的方法，具體如下：
在掩膜版和固定件之間設有連接塊，連接塊與掩膜版水平布置，所述的連接塊具有一長度為X的可變化段，初始時對掩膜版、連接塊和固定件施加作用力F，使得三者依次相互貼合，當需要使掩膜版進行X的位移時，去除所述的連接塊的可變化段，即可實現掩膜版的位移；
或在掩膜版和固定件之間設有連接塊，連接塊與掩膜版水平布置，所述的連接塊的長度隨溫度的變化而變化，初始時對掩膜版、連接塊和固定件施加作用力F，使得三者依次貼合，當需要使掩膜版進行X的位移時，改變所述的連接塊的溫度使得其長度發生變化，即可實現掩膜版的位移。
2.如權利要求1所述的使光刻線條變窄的方法，其特征在于所述的可變化段為通過真空鍍膜法獲得的薄膜。
3.如權利要求1所述的使光刻線條變窄的方法，其特征在于在S3之后，通過顯影、蝕刻最終獲得所述的光刻部。
4.一種用于如權利要求1所述的使光刻線條變窄的方法的光刻機，其特征在于包括光源和至少一塊掩膜版。
5.一種用于如權利要求1所述的使光刻線條變窄的方法的光刻機，其特征在于包括掩膜版、固定件和連接塊，所述的連接塊設置于所述的掩膜版和固定件之間，所述的連接塊具有一長度為X的可變化段。
6.一種用于如權利要求1所述的使光刻線條變窄的方法的光刻機，其特征在于包括掩膜版、固定件和連接塊，所述的連接塊設置于所述的掩膜版和固定件之間，所述的連接塊在所述的掩膜版和固定件之間的長度隨溫度的變化而變化。
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