[發(fā)明專利]一種磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向方法、裝置及制品

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110242521.8
• 申請(qǐng)日: 2021-03-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112635154B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顏鑠清;翟文正;曹粲;賀君;孫明科;孫化海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東高鑫信息股份有限公司;湖南工程學(xué)院
• 主分類(lèi)號(hào): H01F13/00
• 分類(lèi)號(hào): H01F13/00;H01F41/02
• 代理公司: 廣州高炬知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44376
• 代理人: 劉志敏

本發(fā)明公開(kāi)了一種磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向裝置，其包括支架、第一限位對(duì)輥、磁場(chǎng)取向輥、第二限位對(duì)輥，以及依次經(jīng)過(guò)第一限位對(duì)輥、磁場(chǎng)取向輥、第二限位對(duì)輥的流延基帶；所述的流延基帶上承載有待流延成型的流延漿料，該漿料中包括待取向的磁性填料；所述流延基帶與磁場(chǎng)取向輥的頂部弧段接觸；磁場(chǎng)取向輥由固定軸、磁體安裝層、膠套層；所述磁體安裝層設(shè)有一磁性硬磁體，對(duì)流延漿料中的各磁性填料，進(jìn)行磁場(chǎng)取向排列并磁化。本發(fā)明還公開(kāi)了采用該裝置的磁場(chǎng)取向方法及制品。本發(fā)明利用磁力與重力的共同作用對(duì)磁性材料進(jìn)行重排和取向，磁體體積小，各處強(qiáng)度均勻，取向效率更高、效果更好；制得的磁膜材料厚度大、寬度可根據(jù)需要擴(kuò)展。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁性填料流延成型技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向方法、裝置及制品。

背景技術(shù)

磁性薄膜材料，是厚度在較小的強(qiáng)磁性材料。由于磁膜材料的獨(dú)特特性，越來(lái)越多的得到應(yīng)用。磁膜材料廣泛用于制造計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)，光通信中的磁光調(diào)制器、光隔離器和光環(huán)行器等。

磁性材料通過(guò)在磁場(chǎng)中成型可以獲得磁各向異性，從而性能獲得提升。各種磁性材料幾乎都可制成成分和厚度可以控制的磁膜材料。但是由于磁膜材料較薄，常規(guī)的磁場(chǎng)取向成型工藝無(wú)法使用，所以需要采用流延成型工藝。現(xiàn)有的流延過(guò)程中需要采取磁場(chǎng)成型就需要添加一個(gè)磁場(chǎng)取向裝置。

中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)?zhí)?02010528169.X公開(kāi)了一種磁性填料定向排列的流延成型方法，包括步驟：(1)配制含磁性填料的漿料；(2)將漿料進(jìn)行流延，所得流延漿料經(jīng)平行磁場(chǎng)取向后干燥得到取向流延膜；平行磁場(chǎng)由兩組同極相對(duì)、平行設(shè)置且分別位于流延漿料上下兩側(cè)的磁鐵組產(chǎn)生，平行磁場(chǎng)平行于流延漿料前進(jìn)方向。該發(fā)明還公開(kāi)了一種實(shí)施所述的流延成型方法的流延成型裝置，包括流延機(jī)、刮刀、基帶和兩組磁鐵組，兩組磁鐵組同極相對(duì)、平行設(shè)置且分別位于基帶上下兩側(cè)。但是，上述技術(shù)方案中采的靜磁場(chǎng)方向是水平平行于漿料，主要用于片狀磁粉的取向，磁膜最大寬度為40cm。該方案存在著平行磁場(chǎng)設(shè)計(jì)復(fù)雜、安裝笨重、價(jià)格昂貴、寬度受限，所獲得的平行磁場(chǎng)各處強(qiáng)度不均勻，并且采用單一的磁力進(jìn)行取向、取向能力較弱、效率較低，難以適用于磁性顆粒、磁性纖維等磁性材料的取向。

因此，需要研究一種新的磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向方法及裝置，以解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種新的磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向方法及裝置，通過(guò)同步改進(jìn)裝置結(jié)構(gòu)和制備工藝，利用磁力與重力的共同作用對(duì)磁性材料進(jìn)行重排和取向，比單純的利用磁場(chǎng)取向所需磁場(chǎng)更小，磁體體積小，各處強(qiáng)度均勻，取向效率更高、效果更好，而且可對(duì)磁性顆粒、磁性纖維等磁性材料的進(jìn)行取向，制得的磁膜材料的寬度不受磁場(chǎng)的限制，可以根據(jù)需要而進(jìn)行擴(kuò)展。

本發(fā)明還公開(kāi)了采用上述方法及裝置制備的磁性薄膜，該薄膜一次性成型的厚度較大，寬度不受磁場(chǎng)的限制，可用于多種高性能薄膜層疊型磁電產(chǎn)品的制造。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種磁性材料流延成型的磁場(chǎng)取向裝置，其包括支架，其特征在于：其還包括依次設(shè)置在支架上的第一限位對(duì)輥、磁場(chǎng)取向輥、第二限位對(duì)輥，以及依次經(jīng)過(guò)第一限位對(duì)輥、磁場(chǎng)取向輥、第二限位對(duì)輥的流延基帶；所述的流延基帶上承載有待流延成型的流延漿料，該漿料中包括待取向的磁性填料；所述流延基帶與磁場(chǎng)取向輥的頂部弧段接觸；所述磁場(chǎng)取向輥為三層結(jié)構(gòu)，內(nèi)層為固定軸，中間層是磁體安裝層，外層是膠套層；所述磁體安裝層沿軸向設(shè)有一橫截面呈扇形、外寬內(nèi)窄的磁性硬磁體，用來(lái)對(duì)流延漿料中的各磁性填料，進(jìn)行磁場(chǎng)取向排列并磁化。

所述磁場(chǎng)取向輥與流延基帶接觸的頂部弧段的水平高度，高于第一限位對(duì)輥接觸流延基帶位置的水平高度，在該段弧形頂部位置上將流延基帶向上頂起，使流延基帶與在第一限位對(duì)輥與磁場(chǎng)取向輥?lái)敳恐g，形成2～8°的坡度，即形成從第一限位對(duì)輥到磁場(chǎng)取向輥的上坡段，使流延基帶上承載的待流延成型的流延漿料，沿流延基帶上表面所形成的2～8°的坡度，從第一限位對(duì)輥到達(dá)磁場(chǎng)取向輥?lái)敳俊?/p>