[發(fā)明專利]一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置

在審

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• 申請日: 2021-03-01
• 公開（公告）號: CN112859354A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡友友;陳康;張明明;竇健泰;荊慶麗;劉俊
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇科技大學(xué)
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09;B08B7/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 王美麗

1.一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，包括依次設(shè)置的激光器(1)、擴(kuò)束準(zhǔn)直系統(tǒng)(8)、光場調(diào)控鏡組(3)和動態(tài)聚焦鏡組(4)，所述的激光器(1)經(jīng)過擴(kuò)束準(zhǔn)直系統(tǒng)(8)后入射到光場調(diào)控鏡組(3)，所述的光場調(diào)控鏡組(3)將激光器(1)輸出的高斯光束(2)整形后經(jīng)過動態(tài)聚焦鏡組(4)實(shí)現(xiàn)長焦深聚焦。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的光場調(diào)控鏡組(3)將激光器(1)輸出的高斯光束(2)整形為貝塞爾高斯光束(41)、渦旋光束(61)、徑向偏振光束(62)、角向偏振光束(63)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的光場調(diào)控鏡組(3)采用軸錐鏡(31)、波片或可變渦旋波片(5)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的波片包括四分之一波片(32)和二分之一波片(33)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的光場調(diào)控鏡組(3)采用軸錐鏡(31)將高斯光束(2)整形成貝塞爾光束(41)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的光場調(diào)控鏡組(3)采用四分之一波片(32)和可變渦旋波片(5)將高斯光束(2)整形成渦旋光束(61)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的光場調(diào)控鏡組(3)采用二分之一波片(33)和可變渦旋波片(5)將高斯光束(2)整形成徑向偏振光束(62)或角向偏振光束(63)。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述光場調(diào)控鏡組(3)的后方設(shè)有移動工作臺(7)，所述的移動工作臺(7)上放置有待清洗材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于光場調(diào)控技術(shù)的激光清洗裝置，其特征在于，所述的動態(tài)聚焦鏡組(4)包括多個透鏡，能夠同時實(shí)現(xiàn)光斑大小和焦距的動態(tài)變化。