[發(fā)明專利]光造型裝置用光學系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110219138.0 | 申請日： | 2021-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN113534485A | 公開（公告）日： | 2021-10-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 大島英司;鈴木久則 | 申請（專利權(quán)）人： | 康達智株式會社 |
| 主分類號： | G02B27/42 | 分類號： | G02B27/42;B29C64/264;B29C64/268;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 成都超凡明遠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彥 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 造型 裝置 用光 系統(tǒng) | ||
1.一種光造型裝置用光學系統(tǒng)，其特征在于，具有：
光源，
光掃描部，使從所述光源出射的光反射并朝向造型面掃描，以及
聚光透鏡，配置在所述光掃描部與所述造型面之間，將由所述光掃描部反射的光聚光；
在將所述聚光透鏡的焦點距離設為f，將所述聚光透鏡的所述造型面?zhèn)鹊拿娴淖畲笥行е睆缴系姆ň€角設為A時，滿足以下公式：
f≤25mm，
0.3＜cos(A)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光造型裝置用光學系統(tǒng)，其特征在于，
所述聚光透鏡為雙凸透鏡，
在將所述聚光透鏡的光掃描部側(cè)的面的曲率半徑設為R1，將所述聚光透鏡的造型面?zhèn)鹊拿娴那拾霃皆O為R2時，滿足以下公式：
1.0≤|R1/R2|。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光造型裝置用光學系統(tǒng)，其特征在于，
在所述光源與所述光掃描部之間還具有光束整形單元，
在將從所述光源入射的光線的橫截面中的短軸的長度設為Da，將長軸的長度設為Db時，所述光束整形單元在出射側(cè)以滿足以下公式的方式使所述短軸方向的光擴散，
0.9＜Da/Db＜1.2。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光造型裝置用光學系統(tǒng)，其特征在于，
所述光束整形單元在從所述光源出射的光線的入射側(cè)具有沿著所述長軸形成的凹面，在出射側(cè)具有沿著所述長軸形成的凸面。
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