[發明專利]反射測量裝置

有效

• 申請號: 202110205870.2
• 申請日: 2021-02-24
• 公開（公告）號: CN112986189B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: 張立功;李顏濤;駱永石
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01N21/47
• 分類號: G01N21/47;G01N21/55;G01N21/31;G01N21/35;G01N21/25
• 代理公司: 長春中科長光知識產權代理事務所(普通合伙) 22218
• 代理人: 高一明;郭婷

1.一種反射測量裝置，其特征在于，包括棱形雙面鏡和凹面鏡，所述棱形雙面鏡具有第一反射面和第二反射面，所述凹面鏡設置在所述第一反射面的反射光路上，光學元件設置在所述凹面鏡的反射光路上，探測光入射至所述第一反射面，并反射到所述凹面鏡，在所述凹面鏡的角度限制下入射至所述光學元件的表面，所述光學元件的反射光經所述第二反射面的反射后沿所述探測光的原光路射出；其中，

所述第一反射面與水平面所成的銳角A滿足如下關系：

其中，L₁為棱形雙面鏡頂點與探測光交點之間的水平距離，所述棱形雙面鏡頂點為所述第一反射面與所述第二反射面的交點，所述探測光交點為入射到所述第一反射面的探測光與所述入射到所述光學元件表面的入射光的交點，d為所述探測光的光束的豎向尺寸。

2.根據權利要求1所述的反射測量裝置，其特征在于，所述第二反射面與水平面所成的銳角B滿足如下關系：

其中，α為所述探測光入射到所述光學元件表面的入射角。

3.根據權利要求2所述的反射測量裝置，其特征在于，所述第一反射面與所述第二反射面所成的銳角為θ，則：

4.根據權利要求3所述的反射測量裝置，其特征在于，所述銳角A的范圍為19°～38°，所述凹面鏡的焦距為200mm～300mm。

5.根據權利要求1所述的反射測量裝置，其特征在于，在所述第一反射面的前方設置有用于控制所述探測光直徑的孔徑光闌。

6.根據權利要求1所述的反射測量裝置，其特征在于，在所述第一反射面、所述第二反射面和所述凹面鏡的反射面上分別鍍有金屬反射膜。