[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件和制造半導(dǎo)體器件的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110185533.1 | 申請日： | 2021-02-10 |
| 公開（公告）號： | CN113053853A | 公開（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃麟淯;游力蓁;張家豪;莊正吉;程冠倫;王志豪 | 申請（專利權(quán)）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L23/528 | 分類號： | H01L23/528;H01L21/768;H01L29/423;H01L21/28;H01L29/78;H01L21/336;H01L27/088;H01L27/092;H01L21/8234;H01L21/8238 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李偉 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 半導(dǎo)體器件 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件，包括：
金屬柵極結(jié)構(gòu)，具有設(shè)置在所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上的側(cè)壁間隔件，其中，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的頂面相對于所述側(cè)壁間隔件的頂面凹進(jìn)；
金屬覆蓋層，設(shè)置在所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的上方并與金屬柵極結(jié)構(gòu)接觸，其中，所述金屬覆蓋層的底部的第一寬度大于金屬覆蓋層的頂部的第二寬度；以及
介電材料，設(shè)置在所述金屬覆蓋層的任一側(cè)上，其中，所述側(cè)壁間隔件和所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的部分設(shè)置在所述介電材料的下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，還包括：
層間介電(ILD)層，設(shè)置為與所述金屬柵極結(jié)構(gòu)相鄰，其中，所述層間介電層的第一側(cè)面與側(cè)壁間隔件的第二側(cè)面接觸，所述側(cè)壁間隔件沿著所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件，其中，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的頂面和所述側(cè)壁間隔件的頂面都相對于所述層間介電層的頂面凹進(jìn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件，其中，所述金屬覆蓋層、所述介電材料以及所述層間介電層的頂面基本上彼此齊平。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，其中，所述金屬覆蓋層的側(cè)壁沒有粘合層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，其中，所述金屬覆蓋層限定金屬柵極通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，其中，所述金屬覆蓋層具有錐形輪廓。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件，還包括：粘合層，介于所述金屬覆蓋層和所述金屬柵極結(jié)構(gòu)之間。
9.一種半導(dǎo)體器件，包括：
金屬柵極結(jié)構(gòu)，具有頂部和底部，其中，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的頂部具有錐形輪廓，其中，所述錐形輪廓的底面的寬度大于所述錐形輪廓的頂面的寬度，并且其中所述錐形輪廓的底面的寬度小于所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的底部的頂面的寬度；以及
側(cè)壁間隔件，設(shè)置在所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上，其中，所述側(cè)壁間隔件與所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的底部接觸，其中，所述側(cè)壁間隔件通過介電材料與所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的頂部分離，并且其中，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的底部的部分設(shè)置在所述介電材料的下方。
10.一種制造半導(dǎo)體器件的方法，包括：
提供包括金屬柵極結(jié)構(gòu)的襯底，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)具有設(shè)置在所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上的側(cè)壁間隔件；
對所述金屬柵極結(jié)構(gòu)和所述側(cè)壁間隔件進(jìn)行回蝕刻，其中，在所述回蝕刻后，所述金屬柵極結(jié)構(gòu)的頂面相對于所述側(cè)壁間隔件的頂面凹進(jìn)；
在被回蝕刻的金屬柵極結(jié)構(gòu)和被回蝕刻的側(cè)壁間隔件的上方沉積金屬覆蓋層；以及
通過去除所述金屬覆蓋層的部分來使所述金屬覆蓋層圖案化，以暴露所述被回蝕刻的側(cè)壁間隔件和至少所述被回蝕刻的金屬柵極結(jié)構(gòu)的部分；
其中，所述圖案化的金屬覆蓋層提供金屬柵極通孔，并且其中，所述圖案化的金屬覆蓋層的底部的第一寬度大于所述圖案化的金屬覆蓋層的頂部的第二寬度。
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