[發(fā)明專(zhuān)利]工作臺(tái)裝置、供電機(jī)構(gòu)和處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110140802.2
• 申請(qǐng)日: 2021-02-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113327881A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 武田聰
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/683
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/683;H01L21/67;C23C14/34;C23C14/50
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種工作臺(tái)裝置，其能夠在處理基片的處理裝置的保持為真空的處理容器內(nèi)保持基片，所述工作臺(tái)裝置的特征在于，包括：

工作臺(tái)，其具有銅制的主體部和設(shè)置于所述主體部之上的靜電吸盤(pán)，所述靜電吸盤(pán)內(nèi)置吸附電極并對(duì)基片進(jìn)行吸附保持；

設(shè)置于所述工作臺(tái)的下方的冷卻部，其對(duì)所述工作臺(tái)進(jìn)行冷卻；以及

供電機(jī)構(gòu)，其從設(shè)置于所述工作臺(tái)的下方的直流電源對(duì)所述吸附電極進(jìn)行供電，

所述供電機(jī)構(gòu)包括：

在所述工作臺(tái)的外周彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置的一對(duì)端子部，其具有分別與所述吸附電極的正極側(cè)和負(fù)極側(cè)連接的連接部；

具有一對(duì)金屬棒的第1供電線，所述一對(duì)金屬棒的一端分別連接到所述直流電源的正極側(cè)和負(fù)極側(cè)，向所述工作臺(tái)側(cè)延伸，且彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置；

具有一對(duì)金屬棒的第2供電線，所述一對(duì)金屬棒的一端分別連接到所述一對(duì)端子部，且彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置；以及

連接部，其將所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒各自的另一端分別與所述第2供電線的所述一對(duì)金屬棒各自的另一端連接。

2.如權(quán)利要求1所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒從所述直流電源側(cè)沿所述冷卻部向所述工作臺(tái)側(cè)延伸。

3.如權(quán)利要求2所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述冷卻部包括：設(shè)置于所述工作臺(tái)的下方的制冷機(jī)；以及支承所述工作臺(tái)的銅制的冷凍導(dǎo)熱體，其將所述制冷機(jī)的冷量傳導(dǎo)到所述工作臺(tái)，

所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒沿所述制冷機(jī)和所述冷凍導(dǎo)熱體延伸。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述第1供電線的所述一端與所述直流電源的供電端子部連接。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述連接部配置于所述工作臺(tái)的正下方的位置。

6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒和所述第2供電線的所述一對(duì)金屬棒在表面具有絕緣覆蓋物。

7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述連接部具有絕緣遮罩，所述絕緣遮罩覆蓋所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒與所述第2供電線的所述一對(duì)金屬棒的連接部位。

8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述冷卻部進(jìn)行控制以使得所述工作臺(tái)的冷卻溫度成為﹣173℃(100K)以下。

9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的工作臺(tái)裝置，其特征在于：

所述處理容器內(nèi)保持為1×10^-5Pa以下的高真空，能夠?qū)λ鎏幚砣萜鲀?nèi)供給處理用的氣體。

10.一種供電機(jī)構(gòu)，其特征在于：

從設(shè)置于工作臺(tái)的下方的直流電源對(duì)設(shè)置于所述工作臺(tái)的對(duì)基片進(jìn)行吸附保持的靜電吸盤(pán)的吸附電極進(jìn)行供電，所述工作臺(tái)在處理基片的處理裝置的保持為真空的處理容器內(nèi)保持基片，并能夠被下方的冷卻部冷卻，

所述供電機(jī)構(gòu)包括：

在所述工作臺(tái)的外周彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置的一對(duì)端子部，其具有分別與所述吸附電極的正極側(cè)和負(fù)極側(cè)連接的連接部；

具有一對(duì)金屬棒的第1供電線，所述一對(duì)金屬棒的一端分別連接到所述直流電源的正極側(cè)和負(fù)極側(cè)，向所述工作臺(tái)側(cè)延伸，且彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置；

具有一對(duì)金屬棒的第2供電線，所述一對(duì)金屬棒的一端分別連接到所述一對(duì)端子部，且彼此隔開(kāi)間隔地設(shè)置；以及

連接部，其將所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒各自的另一端分別與所述第2供電線的所述一對(duì)金屬棒各自的另一端連接。

11.如權(quán)利要求10所述的供電機(jī)構(gòu)，其特征在于：

所述第1供電線的所述一對(duì)金屬棒從所述直流電源側(cè)沿所述冷卻部向所述工作臺(tái)側(cè)延伸。