[發(fā)明專利]一種生成電子束毛化掃描波形的方法和系統(tǒng)

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110135323.1
• 申請日: 2021-02-01
• 公開（公告）號: CN112818282A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設計）人: 趙桐;李立航;付鵬飛
• 申請（專利權）人: 中國航空制造技術研究院
• 主分類號: G06F17/10
• 分類號: G06F17/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種生成電子束毛化掃描波形的方法，其特征在于，包括步驟：

對目標陣列圖形的特點進行分析，并將所述目標陣列圖形轉化為掃描波形的特征參數(shù)；

分析所述掃描波形中單個造型單元的點分布特征及規(guī)律，對所述造型單元的點坐標進行計算；

分析同一行中所述造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算行中的點坐標；

分析相鄰兩行造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算相鄰兩行的點坐標；

分析剩余造型陣列的分布特征及規(guī)律，計算剩余點坐標，生成電子束毛化掃描波形。

2.根據權利要求1所述的生成電子束毛化掃描波形的方法，其特征在于，所述造型單元包括單線陣列形、十字交叉形或星形；所述掃描波形的特征參數(shù)包括：造型單元類型、造型單元列間距離、造型單元行間距離、相鄰行錯位量、行數(shù)、列數(shù)。

3.根據權利要求1所述的生成電子束毛化掃描波形的方法，其特征在于，所述分析所述掃描波形中單個造型單元的點分布特征及規(guī)律，對所述造型單元的點坐標進行計算，包括步驟：

將所述目標陣列圖形的左上角設為起始點；

分析所述造型單元在所述目標陣列圖形中的位置關系，根據所述起始點計算所述造型單元的第一個點的坐標；

根據所述造型單元中第一個點與其他點之間的關系，計算其他點的坐標；其中所述第一個點設置為所述造型單元左上角的點。

4.根據權利要求3所述的生成電子束毛化掃描波形的方法，其特征在于，所述分析同一行中所述造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算行中的點坐標，包括步驟：

獲取相同行中、相鄰列之間的列間距；所述列間距是指相同行中、相鄰兩個造型單元的相應位置上的點之間的距離；

根據已計算得到坐標的所述造型單元的點坐標為參考坐標；

根據所述參考坐標與同一行中其他所述造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算其他造型單元的坐標，得到行坐標。

5.根據權利要求4所述的生成電子束毛化掃描波形的方法，其特征在于，所述分析相鄰兩行造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算相鄰兩行的點坐標，包括步驟：

獲取相鄰行之間的行間距和錯位量，所述行間距是指相同列中、相鄰兩個造型單元的相應位置上的點之間的距離；

結合已計算得到坐標的所述行坐標、行間距和錯位量，得到所述目標陣列圖形其他行的坐標。

6.一種生成電子束毛化掃描波形的系統(tǒng)，其特征在于，包括：

分析轉化模塊，用于對目標陣列圖形的特點進行分析，并將所述目標陣列圖形轉化為掃描波形的特征參數(shù)；

造型單元點坐標計算模塊，用于分析所述掃描波形中單個造型單元的點分布特征及規(guī)律，對所述造型單元的點坐標進行計算；

行坐標計算模塊，用于分析相鄰兩行造型單元之間的分布特征及規(guī)律，計算相鄰兩行的點坐標；

剩余坐標計算模塊，用于分析剩余造型陣列的分布特征及規(guī)律，計算剩余點坐標，生成電子束毛化掃描波形。

7.一種生成電子束毛化掃描波形的系統(tǒng)，其特征在于，所述造型單元點坐標計算模塊包括：

起始點設置模塊，用于將所述目標陣列圖形的左上角設為起始點；

第一個點的坐標計算模塊，用于分析所述造型單元在所述目標陣列圖形中的位置關系，根據所述起始點計算所述造型單元的第一個點的坐標；

其他點計算模塊，用于根據所述造型單元中第一個點與其他點之間的關系，計算其他點的坐標；其中所述第一個點設置為所述造型單元左上角的點。

8.一種生成電子束毛化掃描波形的系統(tǒng)，其特征在于，所述目標陣列圖形包括單線陣列形、十字交叉型或星型；所述掃描波形的特征參數(shù)包括：造型單元類型、造型單元列間距離、造型單元行間距離、相鄰行錯位量、行數(shù)、列數(shù)。

9.一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質上存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執(zhí)行時，使得所述處理器處理上述所述的生成電子束毛化掃描波形的方法的步驟。

10.一種電子設備，該電子設備包括：

處理器；以及，

被安排成存儲計算機可執(zhí)行指令的存儲器，所述可執(zhí)行指令在被執(zhí)行時使所述處理器執(zhí)行上述所述生成電子束毛化掃描波形的的方法。