[發明專利]蓋板、電子設備及蓋板的制備方法在審
| 申請號: | 202110123704.8 | 申請日: | 2021-01-28 |
| 公開(公告)號: | CN112887471A | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發明(設計)人: | 張維;程麒霖;李夢捷 | 申請(專利權)人: | 維沃移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H04M1/18 | 分類號: | H04M1/18;H04M1/02 |
| 代理公司: | 北京博雅睿泉專利代理事務所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 周禮濤 |
| 地址: | 523863 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蓋板 電子設備 制備 方法 | ||
1.一種蓋板,其特征在于,包括:
基材;
光學紋理層,所述光學紋理層設于所述基材的第一側,所述光學紋理層的第一側面與所述基材連接,所述光學紋理層的第二側面的至少一部分為相對于所述第一側面傾斜延伸的斜面,所述斜面設有多個間隔分布的開口槽,每個所述開口槽具有第一漸變面和第二漸變面;
鍍膜層,所述鍍膜層連接于所述光學紋理層的第二側,所述鍍膜層在所述光學紋理層上的投影覆蓋所述斜面,所述鍍膜層與多個所述開口槽的所述第一漸變面和所述第二漸變面配合以使所述蓋板的表面呈現顏色漸變。
2.根據權利要求1所述的蓋板,其特征在于,所述第二側面具有兩個所述斜面,其中一個所述斜面從所述第二側面的中部沿第一方向朝向所述第一側面傾斜延伸,另一個所述斜面從所述第二側面的中部沿第二方向朝向所述第一側面傾斜延伸,所述第一方向與所述第二方向相反。
3.根據權利要求1所述的蓋板,其特征在于,所述開口槽為V形槽,所述開口槽的一個側壁為所述第一漸變面,所述開口槽的另一個側壁為所述第二漸變面。
4.根據權利要求3所述的蓋板,其特征在于,每個所述開口槽的所述第一漸變面與所述第二漸變面形成的夾角的角度相等,且每個所述夾角的角度為125°-135°。
5.根據權利要求3所述的蓋板,其特征在于,相鄰兩個所述開口槽中,一個所述開口槽的所述第一漸變面與另一個所述開口槽的所述第二漸變面配合形成齒紋,在所述斜面的傾斜方向上,多個所述齒紋的厚度逐漸減小。
6.根據權利要求3所述的蓋板,其特征在于,任意兩個相鄰的所述開口槽的夾角的頂點之間的距離相等,且相鄰兩個所述開口槽的夾角的頂點的之間的距離為20μm-30μm。
7.根據權利要求1所述的蓋板,其特征在于,所述鍍膜層包括依次層疊設置的第一鈦層、二氧化硅層和第二鈦層,其中,
所述二氧化硅層沉積在所述第一鈦層上,所述第二鈦層沉積在所述二氧化硅層上,所述第一鈦層和所述第二鈦層分別為二氧化鈦,所述二氧化硅層的厚度小于所述第一鈦層或所述第二鈦層的厚度。
8.一種根據權利要求1-7中任一項所述蓋板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、在模具上制作出具有開口槽的樣具;
S2、將具有所述開口槽的樣具轉印至具有平面的膜片,以在所述膜片的平面上形成所述開口槽;
S3、對所述膜片浸銀,并電鑄鎳模;
S4、將所述鎳模轉印至基材,以在所述基材上轉印出光學紋理層;
S5、在所述光學紋理層上沉積鍍膜層。
9.根據權利要求8所述的蓋板的制備方法,其特征在于,還包括:
S6、在所述基材的背向所述鍍膜層的一側印刷油墨層;
S7、按照預設外形,切割所述基材。
10.一種電子設備,其特征在于,包括權利要求1-7中任一項所述的蓋板。
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