[發(fā)明專利]一種基于鏡像模塊的子陣級非周期陣列天線及設(shè)計(jì)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110113429.1 | 申請日: | 2021-01-27 |
| 公開(公告)號: | CN112952402B | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱小奇;趙波;陳劍;史永康 | 申請(專利權(quán))人: | 北京遙測技術(shù)研究所;航天長征火箭技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01Q21/00 | 分類號: | H01Q21/00;G06F30/27 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 劉秀祥 |
| 地址: | 100076 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 模塊 子陣級非 周期 陣列 天線 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種基于鏡像模塊的子陣級非周期陣列天線,其特征在于,包括:
多個模塊,每個模塊包括多個子陣,每個子陣包括多個天線單元;
每個子陣內(nèi)的多個天線單元采用矩形柵格均勻排布;
每個模塊內(nèi)的多個子陣采用錯位排布;所有模塊分為兩種,互為鏡像;
利用遺傳算法,對子陣級非周期陣列天線進(jìn)行優(yōu)化,確定最優(yōu)解;
所述多個模塊按所述最優(yōu)解排布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的子陣級非周期陣列天線,其特征在于,將子陣級非周期陣列天線的中心作為原點(diǎn),將子陣級非周期陣列天線的陣面分為四個象限,每個象限內(nèi)的模塊數(shù)量均相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的子陣級非周期陣列天線,其特征在于,子陣級非周期陣列天線的陣面近似為矩形或八邊形或圓形或橢圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的子陣級非周期陣列天線,其特征在于,每個子陣內(nèi)的相鄰的兩個天線單元的行列間距相等且均大于一個波長。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的子陣級非周期陣列天線,其特征在于,每個模塊內(nèi)的相鄰的兩個子陣間錯位長度為半個單元間距。
6.一種基于鏡像模塊的子陣級非周期陣列天線設(shè)計(jì)方法,其特征在于,子陣級非周期陣列天線包括多個模塊,每個模塊包括多個子陣,每個子陣包括多個天線單元;
設(shè)計(jì)方法包括如下步驟:
S1、確定子陣內(nèi)多個天線單元的排布形式;
S2、確定模塊內(nèi)多個子陣的排布形式;并將子陣的排布形式分為互為鏡像的兩種;
S3、利用遺傳算法,隨機(jī)生成初始化矩陣;
S4、按照初始化矩陣內(nèi)的每條染色體,確定該條染色體對應(yīng)的所有模塊的排布形式;
S5、計(jì)算每條染色體對應(yīng)的所有模塊的排布形式的方向圖,并確定相應(yīng)染色體的適應(yīng)度;
S6、若遺傳算法不滿足終止準(zhǔn)則,則生成下一代染色體,轉(zhuǎn)入S4;否則獲取適應(yīng)度最大的染色體,根據(jù)該染色體確定所有模塊的排布形式。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述初始化矩陣的行數(shù)等于模塊的總數(shù)量,初始化矩陣的列數(shù)等于染色體的數(shù)量。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,通過選擇操作、交叉操作、變異操作生成下一代染色體。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,每個子陣內(nèi)的相鄰的兩個天線單元的行列間距相等且均大于一個波長。
10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的設(shè)計(jì)方法,其特征在于,每個模塊內(nèi)的相鄰的兩個子陣間錯位長度為半個單元間距。
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