[發明專利]一種大功率MOS管的封裝方法有效
| 申請號: | 202110102926.1 | 申請日: | 2021-01-26 |
| 公開(公告)號: | CN112750709B | 公開(公告)日: | 2021-11-23 |
| 發明(設計)人: | 黃達利 | 申請(專利權)人: | 廈門四合微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/56;H01L23/367;H01L23/31 |
| 代理公司: | 深圳倚智知識產權代理事務所(普通合伙) 44632 | 代理人: | 霍如肖 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 大功率 mos 封裝 方法 | ||
本發明涉及一種大功率MOS管的封裝方法,在MOS管頂部增加了散熱層,提高了散熱效果;利用散熱層與源極導出線路鏈接,使塑封層中埋置了至少兩層金屬線路來提高互連層的載電流能力;在MOS芯片上直接焊接銅框架來降低芯片Pad在封裝過程中所受物理和化學傷害風險,并降低了貼片精度的要求。
技術領域
本發明涉及半導體封裝技術領域,具體涉及一種大功率MOS管的封裝方法。
背景技術
隨著電子產品向小型化、集成化發展,對于電子產品內部所使用的大功率MOS管這類電源元器件,要求越來越小、越來越薄,并且具有良好的散熱能力。
大功率MOS管的體積和外形不僅受到MOS芯片的設計和制程工藝影響,還與其封裝工藝息息相關。常見的大功率MOS管封裝類型有TO型、SOP型、SOT型,以及更加先進、體積更小、外形更薄的DFN型。
好的封裝工藝,不僅可以最低限度的占用體積和高度,而且具有優秀的互連層載電流能力以及散熱效果。
發明內容
鑒于上述,本發明提供了一種大功率MOS管的封裝方法,該方法以先進的Fan-outpanel級封裝技術為基礎,兼容了PCB廠加工方式形成一種DFN型的封裝規格,可以有效提高互連層載電流能力以及散熱效果,并且占用體積小、高度低;同時擴大了有效加工面積和加工數量,降低了加工精度要求,利于低成本量產。
一種大功率MOS管的封裝方法,包括以下步驟:
A、準備panel級的載體,在載體上制作用于導出MOS芯片漏極的第一銅塊、用于導出MOS芯片柵極的第二銅塊,以及用于導出MOS芯片源極的第三銅塊;
B、將MOS芯片底面的漏極焊接固定在第一銅塊上;
C、在MOS芯片頂面的柵極和源極的頂部分別制作銅塊;
D、將載板上的器件進行塑封,形成塑封層;
E、在塑封層上制作柵極導出線路,柵極導出線路一端連接柵極,另一端與第二銅塊連接;
同時在塑封層上制作源極導出線路,源極導出線路一端連接源極,另一端與第三銅塊連接;
F、在塑封層上壓合PP;
G、在粘結層上采用金屬材料制作散熱層,并沿著源極導出線路制作多個與散熱層連接的銅柱;
H、將封裝后的器件與載體分離,并在種子層底面進行蝕刻,使第一銅塊、第二銅塊和第三銅塊的底部形成焊盤并相互斷開種子層的連接。
優選的,步驟A具體包括:
A1、在載體的頂面濺射一層薄銅作為可分離的種子層;
A2、通過圖形工藝將第一銅塊、第二銅塊和第三銅塊的位置圖形轉移到種子層上;
A3、在圖形中第一銅塊、第二銅塊和第三銅塊的位置通過電鍍生長出銅塊,形成第一銅塊、第二銅塊和第三銅塊。
優選的,第三銅塊表面積大于第二銅塊的表面積。
優選的,步驟C的具體包括:
C1、預制一銅框架,銅框架上設置有與MOS芯片的柵極和源極間距對應的銅塊,以及用于連接、固定銅塊的連筋;
C2、將銅框架上的銅塊與柵極和源極一一對應焊接。
優選的,步驟E具體包括:
E1、對塑封后的器件的頂部進行打磨減薄,并磨掉銅框架的連筋,使銅框架上的銅塊相互獨立;
E2、從塑封層頂面正對第二銅塊鉆盲孔至第二銅塊頂面,并從塑封層頂面正對第三銅塊鉆盲孔至第三銅塊頂面;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





