[發明專利]一種光學鍍增透膜方法

在審

• 申請號: 202110102684.6
• 申請日: 2021-01-26
• 公開（公告）號: CN112987137A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 林新鋒
• 申請（專利權）人: 鞍山市激埃特光電有限公司
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及一種光學鍍增透膜方法，在慢拉機中，將光學產品依次放入TiO₂?SiO₂、TiO₂、TiO₂、SiO₂膠體溶液中浸泡50~70秒，將產品拉出膠體溶液，90~120℃烘烤50~70秒形成四層光學薄膜，放置空氣中自然冷卻到常溫；最后在烤箱中加熱溫度控制在200~250℃加熱1~2小時，加固膜層。本發明所得光學元件的膜層均勻性好，鍍膜穩定；可見光透過率高，使光學元件的透過率達到99%以上。

技術領域

本發明涉及光學元件加工方法技術領域，具體涉及一種光學鍍增透膜方法。

背景技術

增透膜被廣泛應用于平板顯示、激光雷達、光學鏡頭、車窗玻璃、太陽能電池等多個領域。大部分鍍增透膜都是通過光學鍍膜機進行電子槍高溫蒸鍍鍍膜加工而成。此鍍膜方式雖然能滿足絕大部分的光學零件，但是卻不能應用于玻璃管鍍膜，以及一些大口徑異形鏡片的鍍膜中。其他化學鍍膜只能簡單鍍一層TiO₂-SiO₂復合物，或者只鍍其中一種膠體溶液，無法滿足零件的高透過率要求。傳統的化學鍍膜無法配合高精度的慢拉設備，致使鍍出來的膜層均勻性極差。另外TiO₂薄膜在光照后，表面會產生羥基，使薄膜達到超親水狀態，從而具有自清潔功能。然而，由于TiO₂薄膜的折射率較大，在可見光波段透過率很低，達不到應用的要求。SiO₂是一種低折射率的材料，兩者雖然可以混合調節其折射率，但是具有一定的限制性。即使TiO₂-SiO₂復合溶液可以解決膜層之間不匹配和性能下降問題，得到致密的膜層，但是傳統的第二層需要硅酸鹽溶膠制得，會產生酸性廢液，污染環境，其透過性也不會達到很高的效果。

發明內容

本發明的目的在于解決上述問題，提供一種光學鍍增透膜方法，本發明將TiO₂-SiO₂復合溶液和單組分溶液相結合，使用慢拉機進行四次提拉鍍膜，形成四層穩定膜層。解決了目前化學鍍膜透過率低，鍍膜產品形狀單一，效率慢的加工難點。

為了解決上述問題，本發明采用的技術方案如下：

一種光學鍍增透膜方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）第一次慢拉烘烤：在慢拉機中，將光學產品放入TiO₂-SiO₂膠體溶液中浸泡50~70秒，將產品拉出TiO₂-SiO₂膠體溶液，90~120℃烘烤50~70秒形成第一層TiO₂光學薄膜，放置空氣中自然冷卻到常溫；

2）第二、三次慢拉烘烤：在慢拉機中，冷卻后的光學產品放入TiO₂膠體溶液中浸泡50~70秒，將產品拉出TiO₂膠體溶液，90~120℃烘烤50~70秒，形成第二層TiO₂光學薄膜，放置空氣中自然冷卻到常溫；重復進行此步驟，形成第三層TiO₂光學薄膜，放置空氣中自然冷卻到常溫；

3）第四次慢拉烘烤：在慢拉機中，冷卻后的光學產品放入SiO₂膠體溶液中浸泡50~70秒，將產品拉出SiO₂膠體溶液，90~120℃烘烤50~70秒，形成第四層SiO₂光學薄膜，放置空氣中自然冷卻到常溫；

4）加固膜層：將鍍好四層薄膜的光學產品放入烤箱中加熱，加熱溫度控制在200~250℃，加熱1~2小時，然后冷卻至室溫。

進一步的，所述TiO₂-SiO₂膠體溶液的制備過程為：

（1）稀鹽酸的配制：0.2ml濃鹽酸加入100ml水中，所述濃鹽酸的質量百分含量為55%；

（2） 5.1gTEOS、3.4gEtOH、0.27ml稀鹽酸A和0.31g水，60℃條件下混合攪拌1h，然后冷卻至室溫；