[發(fā)明專利]用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110061443.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112858887A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張學(xué)豪;曾國(guó)華;葉明明;李棟杰;趙時(shí)峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昂寶電子(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R31/28 | 分類號(hào): | G01R31/28;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 田琳婧 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 集成電路 封裝 分層 缺陷 檢測(cè) 方法 | ||
提供了一種用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法,包括:在集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳施加能夠使集成電路封裝的內(nèi)部芯片發(fā)熱的預(yù)定電流;測(cè)量集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳處在多個(gè)時(shí)間的端電壓;以及根據(jù)集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳處在多個(gè)時(shí)間的端電壓,判斷集成電路封裝是否存在分層缺陷,其中,分層缺陷是指集成電路封裝的內(nèi)部芯片和封裝基島之間分層的封裝缺陷。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法可以成本低廉且快速地檢測(cè)出大量集成電路封裝中存在分層缺陷的集成電路封裝,從而可以實(shí)現(xiàn)對(duì)于大量集成電路封裝的快速診斷、篩選、和測(cè)試。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路封裝領(lǐng)域,尤其涉及一種用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
集成電路封裝的內(nèi)部芯片與封裝基島之間的分層是一種較為常見(jiàn)的封裝缺陷,會(huì)導(dǎo)致內(nèi)部芯片無(wú)法有效工作或性能異常(例如,內(nèi)部芯片發(fā)熱、效率降低、甚至損傷或損毀等)。
目前,大多采用專業(yè)超聲波掃描設(shè)備來(lái)檢測(cè)集成電路封裝的內(nèi)部芯片與封裝基島之間的分層(即,集成電路封裝的分層缺陷)。但是,專業(yè)超聲波掃描設(shè)備昂貴,并且這種檢測(cè)方法的檢測(cè)效率低,無(wú)法通過(guò)抽樣精準(zhǔn)判斷并剔除大批量集成電路封裝中存在分層缺陷的集成電路封裝。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述的一個(gè)或多個(gè)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法包括:在集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳施加能夠使集成電路封裝的內(nèi)部芯片發(fā)熱的預(yù)定電流;測(cè)量集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳處在多個(gè)時(shí)間的端電壓;以及根據(jù)集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳處在多個(gè)時(shí)間的端電壓,判斷集成電路封裝是否存在分層缺陷,其中,分層缺陷是指集成電路封裝的內(nèi)部芯片和封裝基島之間分層的封裝缺陷。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法可以成本低廉且快速地檢測(cè)出大量集成電路封裝中存在分層缺陷的集成電路封裝,從而可以實(shí)現(xiàn)對(duì)于大量集成電路封裝的快速診斷、篩選、和測(cè)試。
附圖說(shuō)明
從下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式的描述中可以更好地理解本發(fā)明,其中:
圖1示出了集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳所連接的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的等效電路圖。
圖2示出了在集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳施加預(yù)定電流IH時(shí),集成電路封裝的內(nèi)置二極體輸入管腳處的端電壓的變化曲線。
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于集成電路封裝的分層缺陷檢測(cè)方法的流程圖。
圖4示出了PWM類內(nèi)置MOSFET的集成電路封裝的示例引腳圖。
圖5示出了圖4所示的集成電路封裝的Drain腳處在第一時(shí)間和第二時(shí)間的端電壓之間的電壓差值與其分層程度之間的相關(guān)性示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將詳細(xì)描述本發(fā)明的各個(gè)方面的特征和示例性實(shí)施例。在下面的詳細(xì)描述中,提出了許多具體細(xì)節(jié),以便提供對(duì)本發(fā)明的全面理解。但是,對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)很明顯的是,本發(fā)明可以在不需要這些具體細(xì)節(jié)中的一些細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施。下面對(duì)實(shí)施例的描述僅僅是為了通過(guò)示出本發(fā)明的示例來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的更好的理解。本發(fā)明決不限于下面所提出的任何具體配置和算法,而是在不脫離本發(fā)明的精神的前提下覆蓋了元素、部件和算法的任何修改、替換和改進(jìn)。在附圖和下面的描述中,沒(méi)有示出公知的結(jié)構(gòu)和技術(shù),以便避免對(duì)本發(fā)明造成不必要的模糊。
在集成電路封裝中,內(nèi)部芯片和封裝基島之間采用導(dǎo)電銀膠粘接,經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)導(dǎo)電銀膠與內(nèi)部芯片粘接在一起,但是導(dǎo)電銀膠與封裝基島之間出現(xiàn)分層從而導(dǎo)致內(nèi)部芯片和封裝基島之間分層的情況。集成電路封裝的內(nèi)部芯片和封裝基島之間分層是一種比較常見(jiàn)的封裝缺陷。
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