[發明專利]一種電子設備穿透式液冷機箱的自適應泄壓與盛液裝置有效
| 申請號: | 202110061434.2 | 申請日: | 2021-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN112682547B | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發明(設計)人: | 任鋒;李釗;陳曉波;羅紹彬;高中;閆思瑞;龔小立;羅天男;崔鑫;李強;曹云林 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第二十九研究所 |
| 主分類號: | F16K17/04 | 分類號: | F16K17/04;F16K37/00;F16K25/00;F16K27/04;H05K7/20 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214 | 代理人: | 呂玲 |
| 地址: | 610036 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子設備 穿透 式液冷 機箱 自適應 裝置 | ||
本發明公開一種電子設備穿透式液冷機箱的自適應泄壓與盛液裝置,包括缸體,所述缸體一端為連接開口端,內部設置有活塞,所述活塞延伸出缸體另一端;所述活塞內設置盛液空腔,所述盛液空腔在位于所述缸體連接開口端的側邊與缸體連通,所述盛液空腔與外界通過壓差開閉結構連通或者關閉。克服現有技術中電子設備的穿透式液冷機箱斷開與外界液冷管路的連接后,不能同時保證機箱內外壓力平衡以及流出的殘留冷卻液被妥善盛放的不足,能夠壓差適應機箱內外壓力差變化并泄壓,同時能夠妥善盛放機箱內殘留冷卻液的泄壓與盛液裝置。
技術領域
本發明涉及一種裝置,涉及一種電子設備穿透式液冷機箱的自適應泄壓與盛液裝置,特別適用于電子設備的穿透式液冷機箱在與外界液冷管路斷開時的自適應泄壓與盛液裝置。
背景技術
隨著人們對電子設備的功能、性能的不斷追求以及技術的發展,電子設備越來越呈現出變量多、階次高、體積緊湊的特點,元器件的組裝密度不斷提高,電子設備機箱的總熱耗和熱流密度對散熱的要求越來越高。自然散熱或強迫風冷等方法已經不能滿足這些電子設備的散熱需求。液體的吸熱量遠大于空氣,以液體介質對設備進行冷卻,就可以解決這一問題,因此穿透式液冷機箱是解決電子設備散熱的有效途徑之一,得到較為廣泛的應用。
穿透式液冷機箱一般由內部冷板、流過冷卻液的管路以及進液口和出液口組成。穿透式液冷機箱的進液口和出液口通常采用流體連接器實現與外界液冷管路的快速連接與斷開,流體連接器為雙向自密封,保證了流體不會泄漏。穿透式液冷機箱在集成、維修、庫存和運輸等情況下,其進液口和出液口與外界液冷管路斷開連接之后,在自密封流體連接器的作用下,內部的冷板、管路形成密閉的腔體,腔體中殘留有冷卻液和空氣,當溫度升高時,腔體內部的壓力變大,與外界形成壓力差,極易造成機箱過壓損壞,例如內部管路或冷板變形、破裂、機箱“鼓包”等等。
目前保證穿透式液冷機箱內部腔體與外界空氣導通的方式是:在進液口或出液口的流體連接器上加裝一個尾部為空的流體連接頭,使其自密封機構完全打開。但是,在穿透式液冷機箱放置或搬運過程中,其內部管路殘留的冷卻液會從流體連接頭流出,污染產品造成電氣故障、外觀不符合質量檢驗要求等問題,同時殘液流出也會污染環境并可能危害人員健康。普遍的解決辦法是在加裝的流體連接頭尾部下方放置一個容器,流出的冷卻液落入盛液容器之中。但是,盛液容器無法密封,搬動或運輸過程中無法保證液體不灑出或流出。并且,盛液容器也無法固定,在工作過程中存在被碰翻的風險。
發明內容
本發明解決的技術問題是:提供一種電子設備穿透式液冷機箱的自適應泄壓與盛液裝置,克服現有技術中電子設備的穿透式液冷機箱斷開與外界液冷管路的連接后,不能同時保證機箱內外壓力平衡以及流出的殘留冷卻液被妥善盛放的不足,能夠壓差適應機箱內外壓力差變化并泄壓,同時能夠妥善盛放機箱內殘留冷卻液的泄壓與盛液裝置。
本發明采用的技術方案如下:
一種電子設備穿透式液冷機箱的自適應泄壓與盛液裝置電子設備,包括缸體,所述缸體一端為連接開口端,內部設置有活塞,所述活塞延伸出缸體另一端;所述活塞內設置盛液空腔,所述盛液空腔在位于所述缸體連接開口端的側邊與缸體連通,所述盛液空腔與外界通過壓差開閉結構連通或者關閉。
優選的,所述壓差開閉結構包括設置在活塞內與盛液空腔另一側邊連通的排液空腔,所述另一側邊位于遠離缸體連接開口端的側邊,所述排液空腔內設置有排液活塞,所述排液活塞連接拉桿,所述拉桿延伸出活塞一端,所述排液空腔設置有與外界連通的排液孔,所述排液孔設置在所述拉桿伸縮方向上。
優選的,所述排液活塞在拉桿移動方向上還連接有復位彈簧。
優選的,所述排液活塞外部設置有橡膠密封圈I。
優選的,所述活塞外部設置有密封圈II。
優選的,所述活塞外表面設置有刻度。
優選的,所述活塞和缸體選用金屬材質。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國電子科技集團公司第二十九研究所,未經中國電子科技集團公司第二十九研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110061434.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





