[發(fā)明專(zhuān)利]寶石及其切割方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110058049.2
• 申請(qǐng)日: 2021-01-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113142763A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魯文·帕金
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 艾伯特加德有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A44C17/00
• 分類(lèi)號(hào): A44C17/00;A44C27/00;B28D5/00
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204
• 代理人: 王達(dá)佐;王艷春

1.寶石，包括：

腰圍，限定所述寶石的周邊，所述腰圍具有帶長(zhǎng)軸和短軸的枕形橫截面，所述長(zhǎng)軸大于所述短軸；

冠部，形成所述寶石的上部，所述冠部的表面包括：

臺(tái)面，形成所述冠部的大致水平的上表面；

多個(gè)星形刻面，所述多個(gè)星形刻面中的每一個(gè)設(shè)置成鄰近并鄰接所述臺(tái)面的邊緣；

多個(gè)上部過(guò)渡冠部刻面，所述多個(gè)上部過(guò)渡冠部刻面中的每個(gè)大致設(shè)置在所述多個(gè)星形刻面中的兩個(gè)之間，所述多個(gè)上部過(guò)渡冠部刻面中的每一個(gè)的上頂點(diǎn)鄰接所述臺(tái)面的頂點(diǎn)；

多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面，所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的每個(gè)設(shè)置在所述多個(gè)上部過(guò)渡冠部刻面中的兩個(gè)之間，所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的每個(gè)的上頂點(diǎn)鄰接所述多個(gè)星形刻面中的一個(gè)的下頂點(diǎn)；

多個(gè)主冠部刻面，所述多個(gè)主冠部刻面中的每個(gè)設(shè)置在所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的兩個(gè)之間，所述多個(gè)主冠部刻面中的每個(gè)的上頂點(diǎn)鄰接所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的一個(gè)的下頂點(diǎn)，所述多個(gè)主冠部刻面包括多個(gè)長(zhǎng)軸主冠部刻面和多個(gè)短軸主冠部刻面，所述多個(gè)長(zhǎng)軸主冠部刻面沿所述長(zhǎng)軸對(duì)準(zhǔn)，所述多個(gè)短軸主冠部刻面沿所述短軸對(duì)準(zhǔn)；以及

多個(gè)上部腰圍刻面，形成為成對(duì)的相鄰上部腰圍刻面，每對(duì)相鄰上部腰圍刻面大致設(shè)置在所述多個(gè)主冠部刻面中的兩個(gè)之間，每對(duì)上部腰圍刻面中的兩個(gè)上部腰圍刻面的上頂點(diǎn)都鄰接所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的一個(gè)的下頂點(diǎn)；以及

亭部，形成所述寶石的下部，所述亭部的表面包括：

多個(gè)亭尖相鄰刻面，形成所述亭部的下部點(diǎn)，所述多個(gè)亭尖相鄰刻面包括多個(gè)長(zhǎng)軸亭尖相鄰刻面和多個(gè)短軸亭尖相鄰刻面，所述多個(gè)長(zhǎng)軸亭尖相鄰刻面沿著所述長(zhǎng)軸對(duì)準(zhǔn)，所述多個(gè)短軸亭尖相鄰刻面沿著所述短軸對(duì)準(zhǔn)；

多個(gè)燭形刻面，所述多個(gè)燭形刻面中的每個(gè)的下部大致設(shè)置在所述多個(gè)亭尖相鄰刻面中的兩個(gè)之間；

多個(gè)主亭部刻面，所述多個(gè)主亭部刻面中的每個(gè)設(shè)置在所述多個(gè)燭形刻面中的兩個(gè)之間，所述多個(gè)主亭部刻面中的每個(gè)的下邊緣鄰接所述多個(gè)亭尖相鄰刻面中的一個(gè)的上邊緣，所述多個(gè)主亭部刻面包括多個(gè)長(zhǎng)軸主亭部刻面和多個(gè)短軸主亭部刻面，所述多個(gè)長(zhǎng)軸主亭部刻面沿所述長(zhǎng)軸對(duì)準(zhǔn)，所述多個(gè)短軸主亭部刻面沿所述短軸對(duì)準(zhǔn)；以及

多個(gè)下部腰圍刻面，形成為成對(duì)的相鄰下部腰圍刻面，每對(duì)相鄰下部腰圍刻面大致設(shè)置在所述多個(gè)主亭部刻面中的兩個(gè)之間，每對(duì)相鄰下部腰圍刻面使所述多個(gè)燭形刻面中的相應(yīng)一個(gè)的上部大致設(shè)置在其間，

其中，所述腰圍位于所述冠部和所述亭部之間，所述多個(gè)上部腰圍刻面中的每個(gè)設(shè)置成鄰近并鄰接所述腰圍的上邊緣，并且所述多個(gè)下部腰圍刻面中的每個(gè)設(shè)置成鄰近并鄰接所述腰圍的下邊緣。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，所述寶石具有介于約31.5％與約35.5％之間的臺(tái)面百分比。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，所述寶石具有介于約24.5％與約28.5％之間的頂部深度百分比。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，所述寶石具有介于約48.5％至約52.5％之間的底部深度百分比。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，所述寶石具有介于約82.5％與約86.5％之間的總深度百分比。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，所述寶石具有介于約4％與約10％之間的腰圍厚度百分比。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其中，水平面由所述寶石的所述臺(tái)面限定，以及其中，所述多個(gè)星形刻面中的每個(gè)相對(duì)于所述水平面以第一角度設(shè)置，所述多個(gè)上部過(guò)渡冠部刻面中的每個(gè)相對(duì)于所述水平面以第二角度設(shè)置，所述多個(gè)下部過(guò)渡冠部刻面中的每一個(gè)相對(duì)于所述水平面以第三角度設(shè)置，所述多個(gè)長(zhǎng)軸主冠部刻面中的每一個(gè)相對(duì)于所述水平面以第四角度設(shè)置，所述多個(gè)短軸主冠部刻面中的每一個(gè)相對(duì)于所述水平面以第五角度設(shè)置，以及所述多個(gè)上部腰圍刻面中的每一個(gè)相對(duì)于所述水平面以第六角度設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的寶石，其中，第一角度在約10°和約17°之間。